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公开(公告)号：CN109254485A
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201710517567.X
申请日：2017-06-29
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
IPC分类号： G03B21/20
摘要： 本发明涉及一种光源装置，包括用于产生激发光的激发光源、聚光装置和荧光腔体，所述荧光腔体包括腔室和荧光层，所述腔室具有允许光线进出的光窗以及与所述光窗相对设置的底壁，所述底壁表面设有荧光层，所述激发光经过所述聚光装置进行汇聚后自所述光窗入射至所述荧光层表面形成光斑并激发所述荧光层产生受激光，所述光窗的面积小于所述光斑的面积，所述受激光能够自所述光窗出射。本发明提供的光源装置的激发光在激发所述荧光层产生受激光时，所述激发光的功率密度降低了很多，激发效率提高，实现高效的照明或投影系统。同时本发明还提供一种投影系统。
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公开(公告)号：CN109143745A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201710500490.5
申请日：2017-06-27
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
IPC分类号： G03B21/20
CPC分类号： G03B21/20 , G03B21/204
摘要： 本发明公开了一种发光聚集器、发光设备及投影光源。发光聚集器具有光出射表面、光入射表面和与光出射表面相对的对侧表面。发光聚集器具有层叠的多层结构。所述多层结构包括位于中心的至少一层芯层和层叠在所述至少一层芯层两侧的包层，所述包层能够透过具有第一波长分布的光，所述至少一层芯层能够将具有所述第一波长分布的光转换为具有第二波长分布的光。所述对侧表面设置有防止光线漏出的遮光元件，并且所述光入射表面的面积大于所述光出射表面的面积。所述发光设备及投影光源设置有所述发光聚集器和光源。根据本发明，能够抑制发光聚集器的温度的剧烈变化，防止了因内部温度剧烈变化而导致的器件故障。此外，能够使发光聚集器内部热场分布更加均匀，减小了热效应。
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公开(公告)号：CN109143744A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201710453858.7
申请日：2017-06-15
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
CPC分类号： G02B27/10 , G02B27/18 , G03B21/20 , G03B21/204 , G02B27/1006 , G03B21/2066 , G03B21/208
摘要： 本发明涉及一种光源系统与投影系统，光源系统包括发光单元、光路径切换单元、波长转换单元、第一、第二分光单元，其中，发光单元发射光束，光路径切换单元将发光单元发射的光束切换进入一第一光路径或一第二光路径，第一分光单元设置于第一光路径与第二光路径末端，用于分别将入射光束引导至波长转换单元或第二分光单元，第一分光单元还用于将波长转换单元进行波长转换后出射的光束引导至第二分光单元，第二分光单元用于将入射的光束进行分光后时序出射，第二光路径从波长转换单元与第一分光单元之间通过，第二光路径在至少一个维度方向的高度低于所述波长转换单元在该维度方向的高度。利用本发明，光能利用率高且结构紧凑。
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公开(公告)号：CN109133878A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201710506457.3
申请日：2017-06-28
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
IPC分类号： C04B35/10 , C04B35/622 , C04B35/64 , C09K11/02
CPC分类号： C04B35/10 , C04B35/622 , C04B35/64 , C09K11/02 , C04B2235/3206 , C04B2235/3225 , C04B2235/77 , C04B2235/96 , C09K11/025
摘要： 本发明公开了一种机械性能得到提高的复合陶瓷及其制备方法。所述复合陶瓷包括荧光粉、陶瓷基质以及任选的烧结助剂，荧光粉与陶瓷基质的重量比为3:17至9:1，复合陶瓷的相对致密度95％以上。所述制备方法包括使用核壳结构的包覆式荧光粉作为原料，将所述原料球磨并进行烧结，得到所述复合陶瓷。
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公开(公告)号：CN108803214A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710288242.9
申请日：2017-04-27
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
IPC分类号： G03B21/20
CPC分类号： G03B21/00 , G03B21/20 , G03B21/204 , G03B21/206
摘要： 一种光源系统包括光源装置、第一分光合光装置、波长转换装置、及光处理装置，光源装置发出第一激发光及第二激发光，第一激发光具有第一偏振态，第二激发光具有不同于第一偏振态的第二偏振态，第一分光合光装置包括至少一透明基板，至少一透明基板将所述第二激发光中的第一预设比例的激发光引导至光处理装置与波长转换装置其中的一个，以及将第二激发光中的另一部分激发光以及第一激发光引导至光处理装置与波长转换装置中的另外一个，第一预设比例与透明基板的数量相适应；光处理装置将接收到的激发光进行散射并发出第三激发光；波长转换装置将接收到的激发光转换为受激光；第三激发光和所述受激光还被引导至出光通道。
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公开(公告)号：CN108803211A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710286466.6
申请日：2017-04-27
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
CPC分类号： G02B26/00 , G03B21/20 , G03B21/204 , G02B26/008 , G03B21/206 , G03B21/2066 , G03B21/208
摘要： 本发明涉及一种光源系统与投影系统，光源系统包括：发光装置，用于提供时序出射的第一光和第二光；分光系统，分光系统包括：分光装置，分光装置用于将第一光分为第一基色光和第二基色光、以及将第二光分为两路第三基色光，并在第一时序将第一基色光沿第一光路出射、将第二基色光沿第二光路出射，在第二时序将第一基色光沿第二光路出射、将第二基色光沿第一光路出射，以及在第三时序将两路第三基色光分别沿第一光路和第二光路出射；及至少两个光通道，分别设置于所述第一光路与第二光路上，每个所述光通道用于时序出射第一基色光、第二基色光和第三基色光。利用本发明，可以实现避免分光装置分光时的光损失，提高了光能利用率。
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公开(公告)号：CN106154714B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201510166920.5
申请日：2015-04-09
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
摘要： 为解决将不同颜色在时序上进行合光，以使两种颜色的光融合，从而提高显示亮度同时降低散斑的技术问题，本发明提供了一种空间光调制器调制数据的方法，包括以下步骤：将待调制数据的每一帧转换为n个位区段，每个位区段赋予位权重；把至少一个位区段至少分为第一子位区段和第二子位区段，将转换为位区段的待调制数据帧载入空间光调制器；至少一种待调制的基色光，该基色光包括激光和荧光，所述调制单元的至少一个位区段的第一子位区段调制所述激光，第二子位区段调制所述荧光。本发明将两个色光在时序上合光，提高了显示亮度同时也降低了散斑。
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公开(公告)号：CN105549311B
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201610074757.4
申请日：2011-08-27
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
CPC分类号： G03B21/204 , G02B27/1006 , G03B21/208 , G03B33/12
摘要： 本发明实施例提供一种投影系统及其发光装置，所述发光装置包括激发光光源，用于产生一激发光；波长转换装置，包括一波长转换层，所述波长转换层将所述激发光至少部分转换成受激光，所述受激光是宽谱光，或者所述受激光与未被所述波长转换层转换的所述激发光的混合光形成宽谱光；驱动装置，用于使得所述激发光相对所述波长转换层运动；分光装置，用于将所述宽谱光分割成沿不同路径传播的至少两种单色光。通过上述方式，本发明实施例的投影系统及其发光装置能够降低成本，并提高效率。
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公开(公告)号：CN108646508A
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201810408028.7
申请日：2012-12-20
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
摘要： 本发明实施例公开了一种发光装置及投影装置，包括：产生激发光的激发光源；包括波长转换层的波长转换装置，该波长转换层吸收激发光并出射受激光；驱动装置驱动波长转换层周期性转动，以使得入射在波长转换层的光斑沿预定圆形轨迹运动，波长转换装置的至少部分区域的线速度大于等于75米/秒；密封装置，包括透光区和导热区，波长转换装置设置于该密封装置内，透光区透射波长转换装置出射光，导热区与波长转换装置的光出射面或者与其相对的表面之间的距离小于等于1毫米，并将热量传导至密封装置外部，且导热区的面积大于等于激发光入射光斑的面积。本发明实施例提供了一种兼顾波长转换装置的防尘和有效降低其工作温度的发光装置及相关投影系统。
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公开(公告)号：CN108303842A
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201710021717.8
申请日：2017-01-12
申请人： 深圳市光峰光电技术有限公司
摘要： 本发明保护一种投影显示系统，包括：第一光源，用于出射第一光；第一光调制系统，用于接收第一光并将其调制为第一图像光；补光光源，用于至少出射补充光，第一光的光谱包含补充光的光谱；第二光调制系统，用于接收所述补充光并将其调制为补光图像光；合光装置，位于第一光调制系统及第二光调制系统的出射光路上，用于对第一图像光和补光图像光进行合光，在合光位置处，第一图像光的光束截面积大于补光图像光的光束截面积，投影镜头系统位于第一光调制系统及第二光调制系统的出射光路上，用于使第一图像光和补光图像光在预定位置处成像重合。该投影显示系统的补充光源利用率高。
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