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公开(公告)号:CN108187594B
公开(公告)日:2020-12-22
申请号:CN201711457155.8
申请日:2014-11-20
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁 , 本诺·哈尔托赫
IPC分类号: B01J19/00
摘要: 本发明涉及一种用于高通量应用的反应器系统,该反应器系统包括:多个反应器组件,每个反应器组件包括:流体源,该流体源适于将加压流体提供到流通式反应器;其中在至少一个反应器组件的反应器供给线和/或反应器流出线中存在限流通道,该限流通道被布置在平面形微流体芯片中,该微流体芯片进一步包括与所述限流通道流体联通的芯片入口通道和芯片出口通道,所述芯片入口通道与所述芯片出口通道两者具有长度和直径,其中所述芯片入口通道的直径与所述芯片入口通道的长度相比相等或更小,并且其中所述芯片出口通道的直径与所述芯片出口通道的长度相比相等或更小。
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公开(公告)号:CN105992641A
公开(公告)日:2016-10-05
申请号:CN201480064950.9
申请日:2014-11-20
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁 , 本诺·哈尔托赫
IPC分类号: B01J19/00
CPC分类号: B01J19/0093 , B01J19/0046 , B01J2219/00286 , B01J2219/00418 , B01J2219/00808 , B01J2219/00813 , B01J2219/00817 , B01J2219/0086 , B01J2219/00869 , B01J2219/00896 , B01J2219/00898 , B01J2219/00959 , B01J2219/00963 , B01J2219/00984
摘要: 本发明涉及一种用于高通量应用的反应器系统,该反应器系统包括:多个反应器组件,每个反应器组件包括:流体源,该流体源适于将加压流体提供到流通式反应器;分流器,该分流器包括平面形微流体芯片,该微流体芯片具有一芯片入口通道和多个芯片出口通道,该微流体芯片进一步包括多个限流通道,其中每个限流通道从所述芯片入口通道延伸到关联的芯片出口通道,其中所述芯片入口通道和所述芯片出口通道各自具有直径,其中所述芯片入口通道的直径与所述芯片入口通道的长度相比相等或更小,并且其中每个芯片出口通道的直径与所述芯片出口通道的长度相比相等或更小。
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公开(公告)号:CN104812476A
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:CN201380054346.3
申请日:2013-10-11
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁
IPC分类号: B01J19/00
CPC分类号: B01J19/0006 , B01J19/0046 , B01J19/0093 , B01J2219/00286 , B01J2219/00585 , B01J2219/00689 , B01J2219/00698 , B01J2219/00747 , B01J2219/00869 , B01J2219/00891 , B01J2219/00963
摘要: 本发明涉及一种用于运行并行反应器的系统,所述系统包括:-多个反应器组件,每个反应器组件包括:-流通式反应器,-反应器馈入线,-反应器流出线,-主流体源,-分流器,被设置在所述主流体源的下游和所述反应器组件的上游,并且其中,所有被动限流器具有对流体流的基本上相等的阻力,其中所述系统进一步包括馈入线压力测量设备,其中每个流出线中提供单独可控的背压调节器,并且其中进一步提供压力控制装置,所述压力控制装置链接至所述馈入线压力测量设备以及所述背压调节器,所述压力控制装置包括输入设备,允许输入馈入线压力设定值,所述期望的馈入线压力对于所有反应器组件相同,其中所述压力控制装置适于单独控制所述背压控制器,使得所测量的馈入线压力变得基本上与所述馈入线压力设定值相同,并且由此基本与其它反应器组件中的馈入线压力相同。
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公开(公告)号:CN115561385A
公开(公告)日:2023-01-03
申请号:CN202210769487.4
申请日:2022-07-01
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: N·A·V·珀普夫
IPC分类号: G01N31/10
摘要: 一种评估在将石脑油转化为汽油的炼油厂重整工艺中所用催化剂的催化剂性能的方法。更具体地说,在至少两个不同的反应时间内,随着时间的推移,在一定温度下对待研究的催化剂进行平行分析,以在产率上获得所需RON,例如C5+的产率上获得的所需RON。使反应终止,随后确定积炭,并建立积炭和产率的关系,两者都是所用催化剂的反应温度的函数,从而能够比较在给定积炭程度下由产率与温度关系确定的催化剂性能。
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公开(公告)号:CN108187594A
公开(公告)日:2018-06-22
申请号:CN201711457155.8
申请日:2014-11-20
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁 , 本诺·哈尔托赫
IPC分类号: B01J19/00
摘要: 本发明涉及一种用于高通量应用的反应器系统,该反应器系统包括:多个反应器组件,每个反应器组件包括:流体源,该流体源适于将加压流体提供到流通式反应器;其中在至少一个反应器组件的反应器供给线和/或反应器流出线中存在限流通道,该限流通道被布置在平面形微流体芯片中,该微流体芯片进一步包括与所述限流通道流体联通的芯片入口通道和芯片出口通道,所述芯片入口通道与所述芯片出口通道两者具有长度和直径,其中所述芯片入口通道的直径与所述芯片入口通道的长度相比相等或更小,并且其中所述芯片出口通道的直径与所述芯片出口通道的长度相比相等或更小。
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公开(公告)号:CN104812476B
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201380054346.3
申请日:2013-10-11
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆 , 斯·穆宁
IPC分类号: B01J19/00
CPC分类号: B01J19/0006 , B01J19/0046 , B01J19/0093 , B01J2219/00286 , B01J2219/00585 , B01J2219/00689 , B01J2219/00698 , B01J2219/00747 , B01J2219/00869 , B01J2219/00891 , B01J2219/00963
摘要: 本发明涉及一种用于运行并行反应器的系统,所述系统包括:-多个反应器组件,每个反应器组件包括:-流通式反应器,-反应器馈入线,-反应器流出线,-主流体源,-分流器,被设置在所述主流体源的下游和所述反应器组件的上游,并且其中,所有被动限流器具有对流体流的基本上相等的阻力,其中所述系统进一步包括馈入线压力测量设备,其中每个流出线中提供单独可控的背压调节器,并且其中进一步提供压力控制装置,所述压力控制装置链接至所述馈入线压力测量设备以及所述背压调节器,所述压力控制装置包括输入设备,允许输入馈入线压力设定值,所述期望的馈入线压力对于所有反应器组件相同,其中所述压力控制装置适于单独控制所述背压控制器,使得所测量的馈入线压力变得基本上与所述馈入线压力设定值相同,并且由此基本与其
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公开(公告)号:CN105992641B
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:CN201480064950.9
申请日:2014-11-20
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁 , 本诺·哈尔托赫
IPC分类号: B01J19/00
CPC分类号: B01J19/0093 , B01J19/0046 , B01J2219/00286 , B01J2219/00418 , B01J2219/00808 , B01J2219/00813 , B01J2219/00817 , B01J2219/0086 , B01J2219/00869 , B01J2219/00896 , B01J2219/00898 , B01J2219/00959 , B01J2219/00963 , B01J2219/00984
摘要: 本发明涉及一种用于高通量应用的反应器系统,该反应器系统包括:多个反应器组件,每个反应器组件包括:流体源,该流体源适于将加压流体提供到流通式反应器;分流器,该分流器包括平面形微流体芯片,该微流体芯片具有一芯片入口通道和多个芯片出口通道,该微流体芯片进一步包括多个限流通道,其中每个限流通道从所述芯片入口通道延伸到关联的芯片出口通道,其中所述芯片入口通道和所述芯片出口通道各自具有直径,其中所述芯片入口通道的直径与所述芯片入口通道的长度相比相等或更小,并且其中每个芯片出口通道的直径与所述芯片出口通道的长度相比相等或更小。
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公开(公告)号:CN104822450B
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201380054368.X
申请日:2013-10-11
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁 , 埃米利·雷内·博登斯塔夫 , 本诺·哈尔托赫
CPC分类号: B01J19/0006 , B01J19/0013 , B01J19/0046 , B01J2219/00065 , B01J2219/00162 , B01J2219/00477 , B01J2219/00495 , B01L3/502746 , B01L2300/14 , B01L2400/0481 , B01L2400/0655 , F16K99/0011 , F16K99/0015 , F16K99/0026 , F16K99/0044 , F16K99/0061 , G05D16/185 , G05D16/2026 , G05D16/2093 , Y10T137/6416 , Y10T436/12
摘要: 本发明涉及一种用于操作并行反应器的压力控制器。该压力控制器包括适于控制控制室中的参考压力的参考压力控制器。参考压力控制器包括:第一限流器通道;第二限流器通道;流体通路,该流体通路在第一限流器通道的出口和第二限流器通道的入口之间延伸;压力控制流体源,适于提供压力控制流体流,在第一限流器通道的入口处具有入口压力并在第二限流器通道的出口处具有出口压力,所述压力控制流体流在第一限流器通道上经历第一压降Δp1并在第二限流器通道上经历第二压降Δp2;将流体通路连接到控制室的连接器,连接器处的压力控制流体具有中间压力,所述中间压力由第一压降Δp1和第二压降Δp2之间的比率确定;可控的热装置,适于加热和/或冷却第一限流器通道和/或第二限流器通道,由此影响第一压降Δp1和第二压降Δp2之间的比率。
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公开(公告)号:CN104822450A
公开(公告)日:2015-08-05
申请号:CN201380054368.X
申请日:2013-10-11
申请人: 阿凡田技术有限公司
发明人: 鲁兰杜什·亨德里克斯·威廉姆斯·穆宁 , 埃米利·雷内·博登斯塔夫 , 本诺·哈尔托赫
CPC分类号: B01J19/0006 , B01J19/0013 , B01J19/0046 , B01J2219/00065 , B01J2219/00162 , B01J2219/00477 , B01J2219/00495 , B01L3/502746 , B01L2300/14 , B01L2400/0481 , B01L2400/0655 , F16K99/0011 , F16K99/0015 , F16K99/0026 , F16K99/0044 , F16K99/0061 , G05D16/185 , G05D16/2026 , G05D16/2093 , Y10T137/6416 , Y10T436/12
摘要: 本发明涉及一种用于操作并行反应器的压力控制器。该压力控制器包括适于控制控制室中的参考压力的参考压力控制器。参考压力控制器包括:第一限流器通道;第二限流器通道;流体通路,该流体通路在第一限流器通道的出口和第二限流器通道的入口之间延伸;压力控制流体源,适于提供压力控制流体流,在第一限流器通道的入口处具有入口压力并在第二限流器通道的出口处具有出口压力,所述压力控制流体流在第一限流器通道上经历第一压降Δp1并在第二限流器通道上经历第二压降Δp2;将流体通路连接到控制室的连接器,连接器处的压力控制流体具有中间压力,所述中间压力由第一压降Δp1和第二压降Δp2之间的比率确定;可控的热装置,适于加热和/或冷却第一限流器通道和/或第二限流器通道,由此影响第一压降Δp1和第二压降Δp2之间的比率。
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