公开(公告)号：CN116162031A

公开(公告)日：2023-05-26

申请号：CN202310003587.0

申请日：2023-01-03

Applicant: 万华化学集团股份有限公司

Inventor： 董超 ,  赵东科 ,  张金强 ,  朱健 ,  文放 ,  夏以禄 ,  张宏科

IPC: C07C211/50 ,  C07C209/84

Abstract: 本发明公开了一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法，采用HCl气体气提原料MDA，使MDA中的氧化产物（醌、亚胺）能快速的与MDA发生缩合反应，降低MDA中的氧化产物（醌、亚胺），HCl气提量与原料MDA质量比为（0.02‑0.1）:1，气提时间为1‑30min。同时采用负压精馏脱水，可以深度脱除反应生成的水分，在后续光气化反应过程中降低副反应的发生，提高反应收率，延长运行周期。该方法工艺简单，操作方便，运行成本低，可实现自动稳定控制，具有很强的工业适用性。

公开(公告)号：CN116162031B

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202310003587.0

申请日：2023-01-03

Applicant: 万华化学集团股份有限公司

Inventor： 董超 ,  赵东科 ,  张金强 ,  朱健 ,  文放 ,  夏以禄 ,  张宏科

IPC: C07C211/50 ,  C07C209/84

Abstract: 本发明公开了一种光气化生产MDI用的MDA及其处理方法，采用HCl气体气提原料MDA，使MDA中的氧化产物（醌、亚胺）能快速的与MDA发生缩合反应，降低MDA中的氧化产物（醌、亚胺），HCl气提量与原料MDA质量比为（0.02‑0.1）:1，气提时间为1‑30min。同时采用负压精馏脱水，可以深度脱除反应生成的水分，在后续光气化反应过程中降低副反应的发生，提高反应收率，延长运行周期。该方法工艺简单，操作方便，运行成本低，可实现自动稳定控制，具有很强的工业适用性。

公开(公告)号：CN116217439A

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN202310003120.6

申请日：2023-01-03

Applicant: 万华化学集团股份有限公司

Inventor： 董超 ,  赵东科 ,  张金强 ,  文放 ,  张宏科 ,  周宇杰 ,  黄荐 ,  朱健 ,  范石晓

IPC: C07C263/10 ,  C07C263/20 ,  C07C265/14

Abstract: 本发明公开了一种光气化制备MDI的循环溶剂及其提纯方法，通过控制循环溶剂中卤代烃类物质质量含量循环溶剂中卤代烃类物质质量含量，可改善产品品质，降低产品色号。采用隔壁塔组合多效精馏的方式，可实现卤代烃类物质和溶剂的高效分离，产品质量大幅提升，可直接循环使用。该方法合并了异氰酸酯粗品精制过程中的脱气和脱溶剂系统，节省了溶剂提纯单元，实现能量的完全耦合，工艺简单可靠，可大幅降低投资和运行成本。