公开(公告)号：CN1198316C

公开(公告)日：2005-04-20

申请号：CN01144608.0

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 津本高政 ,  仓田洋行 ,  中川广秋 ,  藤田稔

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T428/24959 ,  Y10T428/24983

Abstract: 本发明提供一种薄膜，其在将薄膜安装于掩模时，不会损伤掩模，并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时，在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜，支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜，其特征在于，该树脂层是由硬度在170gf以上的硬质树脂层和硬度在100gf以下的软质树脂层组合而形成的。

公开(公告)号：CN104471479B

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201380037728.5

申请日：2013-07-31

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 近藤正浩 ,  津本高政

IPC: G03F1/64 ,  C08F214/22 ,  C09J127/12 ,  G03F1/62

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜组件，其于防护膜框架的内侧面具有粘着层，该粘着层具有可使尘埃等悬浮物良好地粘固的保持性能、及对短波长光的优异耐光性。本发明的防护膜组件包括：防护膜框架、铺设于上述防护膜框架上的防护膜、及设置于上述防护膜框架的内侧的粘着层，上述粘着层包含相对于上述粘着层为60质量％以上的共聚物，所述共聚物具有下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元。‑CH2CF2‑ …(1)‑CF2CF(CF3)‑ …(2)

公开(公告)号：CN104471479A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201380037728.5

申请日：2013-07-31

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 近藤正浩 ,  津本高政

IPC: G03F1/64 ,  C08F214/22 ,  C09J127/12 ,  G03F1/62

CPC classification number: G03F1/64 ,  C09J127/16 ,  G03F1/62 ,  Y10T428/1352 ,  C08F214/22 ,  C09J127/12

Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜组件，其于防护膜框架的内侧面具有粘着层，该粘着层具有可使尘埃等悬浮物良好地粘固的保持性能、及对短波长光的优异耐光性。本发明的防护膜组件包括：防护膜框架、铺设于上述防护膜框架上的防护膜、及设置于上述防护膜框架的内侧的粘着层，上述粘着层包含相对于上述粘着层为60质量％以上的共聚物，所述共聚物具有下述式(1)所表示的结构单元及下述式(2)所表示的结构单元。-CH2CF2- …(1)-CF2CF(CF3)- …(2)。

公开(公告)号：CN1361547A

公开(公告)日：2002-07-31

申请号：CN01144608.0

申请日：2001-12-20

Applicant: 三井化学株式会社

Inventor： 津本高政 ,  仓田洋行 ,  中川广秋 ,  藤田稔

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/14

CPC classification number: G03F1/64 ,  Y10T428/24959 ,  Y10T428/24983

Abstract: 本发明提供一种薄膜,其在将薄膜安装于掩模时,不会损伤掩模,并且不仅在掩模和薄膜被膜的平面保持在水平方向时,在保持垂直方向时也可以保持掩模的平面性(平直度)。由薄膜被膜,支持薄膜被膜的薄膜框架和将薄膜安装在掩模上的树脂层形成的薄膜,其特征在于,该树脂层是由硬质树脂形成的层和软质树脂形成的层组合而形成的。