衬底处理装置及使用其的衬底处理方法

    公开(公告)号:CN105304547A

    公开(公告)日:2016-02-03

    申请号:CN201510032913.6

    申请日:2015-01-22

    IPC分类号: H01L21/687

    摘要: 公开了一种衬底处理装置和衬底处理方法。所述衬底处理装置包括布置在衬底上方的电极板和布置在所述电极板的边缘位置的弯曲框架。所述弯曲框架包括将沿着第一方向延伸的假想线为基准布置在所述假想线的两侧的第一框架和第二框架,并且通过调节所述第一框架与所述第二框架之间的角度以将所述衬底固定至所述电极板。

    有机发光显示装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102694004B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201210073038.2

    申请日:2012-03-19

    IPC分类号: H01L27/32

    摘要: 一种有机发光显示装置,包括:彼此面对的第一衬底和第二衬底;有机发光装置,设置在所述第一衬底与所述第二衬底之间,所述有机发光装置包括在每个像素中单独形成的像素电极、面对所述像素电极的公共电极以及设置在所述像素电极与所述公共电极之间的有机发光层;以及电极单元和至少一个接线单元,设置在所述第一衬底与所述第二衬底之间,所述电极单元包括至少一个薄膜晶体管以及至少一个电容器,所述至少一个薄膜晶体管被配置为将发光信号传输至所述像素电极,其中,在所述电极单元和所述接线单元中的至少一个的表面上形成光学性质修改层,所述光学性质修改层具有从所述电极单元和所述接线单元中的所述至少一个的光学性质修改的光学性质。

    衬底处理装置及使用其的衬底处理方法

    公开(公告)号:CN105304547B

    公开(公告)日:2019-11-19

    申请号:CN201510032913.6

    申请日:2015-01-22

    IPC分类号: H01L21/687

    摘要: 公开了一种衬底处理装置和衬底处理方法。所述衬底处理装置包括布置在衬底上方的电极板和布置在所述电极板的边缘位置的弯曲框架。所述弯曲框架包括将沿着第一方向延伸的假想线为基准布置在所述假想线的两侧的第一框架和第二框架,并且通过调节所述第一框架与所述第二框架之间的角度以将所述衬底固定至所述电极板。