公开(公告)号：CN113805441A

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：CN202110664970.1

申请日：2021-06-16

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  权昶佑 ,  安一培 ,  崔新革 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  崔珉祐 ,  许舜范

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 公开了一种剥离组合物。一实施例的剥离组合物以剥离组合物的总重量为基准而包括：1重量％以上50重量％以下的极性溶剂；1重量％以上60重量％以下的二醇化合物；1重量％以上20重量％以下的胺化合物；以及1重量％以上40重量％以下的水，其中，以剥离组合物的总重量为基准，极性溶剂以10重量％以上40重量％以下的含量包括N,N‑二甲基丙酰胺和环丁砜中的至少一个。剥离组合物可以在形成于电极上的光致抗蚀剂图案的去除工序中使用，并且可以显示出防止电极腐蚀的特性。

公开(公告)号：CN104597728B

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201410592323.4

申请日：2014-10-29

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金善一 ,  朴弘植 ,  金俸均 ,  金柄郁 ,  朴善周 ,  尹锡壹 ,  赵泰杓 ,  许舜范

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法，该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准，所述剥离液可以包含1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、1～10重量部的所述胺类化合物以及1～30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶，且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。

公开(公告)号：CN104597728A

公开(公告)日：2015-05-06

申请号：CN201410592323.4

申请日：2014-10-29

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金善一 ,  朴弘植 ,  金俸均 ,  金柄郁 ,  朴善周 ,  尹锡壹 ,  赵泰杓 ,  许舜范

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明提供一种剥离液及利用该剥离液的显示装置制造方法，该剥离液包含非质子性极性溶剂、胺类化合物及质子性极性溶剂。以剥离液的总重量为基准，所述剥离液可以包含1～90重量部的所述非质子性极性溶剂、1～10重量部的所述胺类化合物以及1～30重量部的所述质子性极性溶剂。利用所述剥离液能够在短时间剥离光刻胶，且能够减少线路及彩色滤光器等所遭受的损伤。

公开(公告)号：CN106873319A

公开(公告)日：2017-06-20

申请号：CN201610685935.7

申请日：2016-08-18

申请人： 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

发明人： 金俸均 ,  朴弘植 ,  郑在祐 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  许舜范 ,  张斗瑛 ,  金东宽

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/426

摘要： 本发明公开一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物可在避免对金属图案的腐蚀和/或对有机/无机膜的损伤的前提下除去光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物组成为相对于所述剥离剂组合物的总重量而包含：15重量％至80重量％的非质子性极性溶剂，包含有N,N‑二甲基丙酰胺；25重量％至80重量％的质子性极性溶剂；1重量％至15重量％的胺系化合物。

公开(公告)号：CN104272193A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201380024161.8

申请日：2013-04-18

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 辛成健 ,  金炳郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  权五焕 ,  朴善周

IPC分类号： G03F7/42 ,  C11D3/20 ,  H01L21/027

摘要： 本发明涉及一种聚合性液晶组合物，更具体地说，涉及一种用于光学膜时具有热稳定性和液晶相区间的温度范围宽的特性且经济有效的聚合性液晶组合物。本发明中，将核结构不具有连接基而是相互以单键连接或者具有以多环结构连接的一个以上的环结构的液晶化合物混合于聚合性介晶(mesogenic)化合物而构成聚合性液晶组合物，由此液晶材料之间的相容性优异、化学上稳定、在宽的温度范围内保持液晶相，且使用于液晶光学膜时能够制造出具有优异的取向性、耐化学稳定性质的光学膜，由于制造方法较简单，因此经济有效。

公开(公告)号：CN102161942A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110041801.9

申请日：2011-02-18

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC分类号： C11D7/32 ,  H01L51/56

摘要： 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。

公开(公告)号：CN101093365A

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：CN200710123038.8

申请日：2007-06-22

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金圣培 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  朴熙珍 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  许铉 ,  金柄郁

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明涉及一种用于去除在电子电路或显示元件的布图(pattern)过程中所使用的抗蚀膜、且能够抑制对金属布线腐蚀的抗蚀膜(resist)剥离剂组合物，所述抗蚀膜剥离剂组合物优选包含：a)1至20wt％的二胺化合物(diamine compound)；和b)余量的乙二醇醚化合物(glycol ether compound)。本发明可进一步包含极性溶剂。本发明抗蚀膜剥离剂组合物，在进行去除光致抗蚀膜的工序过程中，将不会腐蚀金属布线，且具有优秀的剥离效果。

公开(公告)号：CN101051191A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200710090332.3

申请日：2007-04-04

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 朴熙珍 ,  金圣培 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  许铉 ,  金柄郁

IPC分类号： G03F7/42 ,  B01D29/00

摘要： 本发明涉及一种在通过过滤装置过滤流体之前除去流体中浮游物的显示装置制造系统。本发明的显示装置制造系统包括：工作腔室，在其内部利用工作流体去除显示面板上工作层中的多余部分；浮游物过滤单元，其接收由工作腔室所排出的工作流体，并滤除工作流体中所含有的工作层浮游物；过滤装置，其接收由浮游物过滤单元所排出的工作流体，并滤除工作流体中所含有的工作层成分；流体储存槽，其用于储存通过过滤装置滤除工作层成分后的工作流体。

公开(公告)号：CN103631103B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201310363319.6

申请日：2013-08-20

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 许舜范 ,  金炳郁 ,  赵泰杓 ,  尹锡壹 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明涉及一种可以替代以往常用的对人体有害的NMP等溶剂类，并包含剥离能力优秀的N,N‑二甲基丙酰胺的光致抗蚀剂剥离液组合物。

公开(公告)号：CN102161942B

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201110041801.9

申请日：2011-02-18

申请人： 株式会社东进世美肯

发明人： 金柄郁 ,  尹锡壹 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  辛成健 ,  郑世桓 ,  张斗瑛 ,  朴善周 ,  权五焕

IPC分类号： C11D7/32 ,  H01L51/56

摘要： 本发明涉及包含N-甲基-2-吡咯烷酮以及1，3-二甲基-2-咪唑啉酮(1，3-Dimethyl-2-imidazolidinone)的沉积材料洗涤液组合物及利用该组合物的洗涤方法。若使用所述组合物，则能够迅速去除附着在光电设备制造装置上的沉积材料，从而可缩短制造工艺时间，其降低生产费用，确保工艺安全性。