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公开(公告)号:CN108109941A
公开(公告)日:2018-06-01
申请号:CN201711191153.9
申请日:2017-11-24
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种清洗装置包括接收基板的卡盘、用于将清洗组合物提供到基板上的喷嘴。该清洗装置还包括将清洗组合物供应到喷嘴的化学溶液供应单元。该化学溶液供应单元混合清洗组合物以产生清洗颗粒。清洗组合物包括表面活性剂、去离子(DI)水和有机溶剂。表面活性剂具有从约0.03M到约0.003M的浓度。一种制造半导体器件的方法包括处理基板、形成层间绝缘层、抛光层间绝缘层、以及将清洗组合物提供到层间绝缘层上以去除第一颗粒。
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公开(公告)号:CN101105361A
公开(公告)日:2008-01-16
申请号:CN200710103451.8
申请日:2007-05-18
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H01L21/02057 , H01L21/67034
Abstract: 在干燥物体的方法中,第一干燥流体和第二干燥流体可以被第一次加热,以形成气体混合物。第二次加热该气体混合物,以防止该混合气体凝结。该第二次加热气体混合物可以被过滤,以除去第二次加热气体混合物中的杂质。然后,该过滤的混合气体被施加到物体,以干燥该物体。
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