公开(公告)号：CN101398639A

公开(公告)日：2009-04-01

申请号：CN200810211419.6

申请日：2008-09-22

申请人： 三星电子株式会社 ,  东进世美肯株式会社

发明人： 李智鲜 ,  朴弘植 ,  郑钟铉 ,  洪瑄英 ,  金俸均 ,  李炳珍 ,  金柄郁 ,  郑宗铉 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  辛成健 ,  许舜范 ,  郑世桓 ,  张斗瑛

IPC分类号： G03F7/42

CPC分类号： G03F7/425

摘要： 本发明提供了一种剥离组合物和剥离方法，其能够容易地剥离在基板上形成的颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜以当在基板上形成滤色片或有机绝缘薄膜过程中发现缺陷时重新使用该基板。在一种具体实施方式中，剥离组合物包括约0.5至约45wt％的氢氧化合物、约10至约89wt％的烷撑二醇烷基醚化合物、约5至约45wt％的链烷醇胺化合物、以及约0.01至约5wt％的无机盐化合物。有利地，剥离过程可以在不损坏下基板的薄膜晶体管同时除去颜色抗蚀剂或有机绝缘薄膜的情况下实施。

公开(公告)号：CN105593313B

公开(公告)日：2018-02-13

申请号：CN201480053241.0

申请日：2014-09-22

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 柳官泰 ,  金京恩 ,  俞载元 ,  崔胜晳 ,  金圣培

IPC分类号： C09D5/24 ,  C09D101/02 ,  C08J5/18 ,  H01B5/14

CPC分类号： C09D101/12 ,  B82Y30/00 ,  C08K7/06 ,  C09D5/24 ,  C09D7/70 ,  C09D101/08

摘要： 本发明涉及含有金属纳米线的导电性涂布组合物及利用其的导电性膜的形成方法，更详细地说，涉及通过包含金属纳米线、梯形倍半硅氧烷高分子、有机粘合剂树脂和分散液，从而具有优异的表面电阻、耐磨性、硬度、与基材的密合性和柔性，因此适于制造导电性膜的导电性涂布组合物以及利用其的导电性膜的制造方法。

公开(公告)号：CN1758144A

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN200510102849.0

申请日：2005-09-13

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 尹锡壹 ,  金圣培 ,  金玮溶 ,  郑宗铉 ,  许舜范 ,  金柄郁

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明涉及一种光阻剂剥离液组合物，提供一种包含环形胺、溶剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。并且，本发明还提供一种包含环形胺、溶剂、防腐剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。本发明光阻剂剥离液组合物不仅在适用于现有LCD模块制备中包括异丙醇(以下简称“IPA”)清洗阶段的一般工程时，而且在适用于最近省略IPA清洗阶段的工程时，不存在对金属布线多余的腐蚀影响，特别是可大大提高剥离能力。

公开(公告)号：CN105593313A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201480053241.0

申请日：2014-09-22

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 柳官泰 ,  金京恩 ,  俞载元 ,  崔胜晳 ,  金圣培

IPC分类号： C09D5/24 ,  C09D101/02 ,  C08J5/18 ,  H01B5/14

CPC分类号： C09D101/12 ,  B82Y30/00 ,  C08K7/06 ,  C09D5/24 ,  C09D7/70 ,  C09D101/08

摘要： 本发明涉及含有金属纳米线的导电性涂布组合物及利用其的导电性膜的形成方法，更详细地说，涉及通过包含金属纳米线、梯形倍半硅氧烷高分子、有机粘合剂树脂和分散液，从而具有优异的表面电阻、耐磨性、硬度、与基材的密合性和柔性，因此适于制造导电性膜的导电性涂布组合物以及利用其的导电性膜的制造方法。

公开(公告)号：CN101424888A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200810174803.3

申请日：2008-10-31

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 洪瑄英 ,  朴弘植 ,  郑锺铉 ,  金俸均 ,  李智鲜 ,  李炳珍 ,  金柄郁 ,  尹锡壹 ,  金圣培 ,  辛成健 ,  许舜范

IPC分类号： G03F7/42 ,  H01L21/84

摘要： 本发明提供光致抗蚀剂剥离用组合物、使用该组合物的光致抗蚀剂剥离方法和显示装置的制造方法，该光致抗蚀剂剥离用组合物能够再次使用而剥离性能没有实质性降低并且金属图案没有损伤，从而能够减少照相蚀刻工序的成本。本发明中的光致抗蚀剂剥离用组合物含有80重量％～98.5重量％砜系化合物、1重量％～10重量％内酯系化合物以及0.1重量％～5重量％烷基磺酸。

公开(公告)号：CN105900188B

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201480071451.2

申请日：2014-12-29

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 李炳昱 ,  李圣贤 ,  金京恩 ,  金明珍 ,  徐东敏 ,  金圣培

IPC分类号： H01B13/00 ,  H01B5/14

摘要： 本发明涉及通过表面处理的基于金属纳米线的透明导电膜的图案化方法，更详细地，涉及在图案化工序之前，还设置光学功能层来调节折射率，利用表面处理剂组合物使金属纳米线透明导电膜的表面发生氧化或生成盐化合物而使颜色发生变化，从而使表面绝缘，并将可视性优异的膜进行图案化的方法。

公开(公告)号：CN104159985B

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201380013342.0

申请日：2013-03-07

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 李圣贤 ,  金圣培 ,  金京恩 ,  李睃赫

IPC分类号： C09D11/52 ,  H01B1/22

CPC分类号： C09D11/52 ,  H01B1/22

摘要： 本发明涉及一种透明电极形成用导电性油墨组合物。具体地讲，根据本发明的透明电极形成用导电性油墨组合物，以金属纳米线形成导电性网络，且以金属溶胶弥补网络的断线并填充空着的空间，因而具有优良的导电性和可见光透射率，由于金属溶胶作为防止金属纳米线的腐蚀和氧化的保护层起作用，因而无需另外的抗氧化剂或保护层，且能够确保所制造的透明电极的耐环境性。

公开(公告)号：CN105900188A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201480071451.2

申请日：2014-12-29

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 李炳昱 ,  李圣贤 ,  金京恩 ,  金明珍 ,  徐东敏 ,  金圣培

IPC分类号： H01B13/00 ,  H01B5/14

摘要： 本发明涉及通过表面处理的基于金属纳米线的透明导电膜的图案化方法，更详细地，涉及在图案化工序之前，还设置光学功能层来调节折射率，利用表面处理剂组合物使金属纳米线透明导电膜的表面发生氧化或生成盐化合物而使颜色发生变化，从而使表面绝缘，并将可视性优异的膜进行图案化的方法。

公开(公告)号：CN104169213A

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：CN201380014292.8

申请日：2013-03-14

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 李升爀 ,  李圣贤 ,  刘炫硕 ,  柳官泰 ,  韩住炅 ,  金圣培

IPC分类号： C01B31/02 ,  C08K3/02 ,  C09D175/04

CPC分类号： C09D175/04 ,  C08K3/042 ,  C09D7/70 ,  H05K9/0083

摘要： 本发明涉及一种金属-石墨烯粉末及含有该金属-石墨烯粉末的电磁波屏蔽用涂料组合物，更具体地讲涉及：一种石墨烯粉末，其为结合有作为导电性材料的金属的纳米单位片状结构；以及，电磁波屏蔽用涂料组合物，其含有该石墨烯粉末，从而电导率特性、与下部基板的粘接力、涂布特性、屏蔽特性等均优良。

公开(公告)号：CN101618462A

公开(公告)日：2010-01-06

申请号：CN200910139847.7

申请日：2009-07-03

申请人： 东进世美肯株式会社

发明人： 金柄郁 ,  金圣培 ,  李圣贤 ,  刘炫硕

IPC分类号： B22F9/24

摘要： 金属纳米颗粒的制造方法，该方法将已有的2阶段的金属颗粒生成过程(首先生成氧化亚铜后，再通过还原剂生成铜颗粒)减少为1阶段，从而能够显著简化工序；能够在低温(15～60℃)下通过短时间的反应容易地取得金属铜颗粒；不需要经过二次水洗去除金属盐的复杂的水洗工序；粒度分布均匀且不要求分级工序，因此适于批量生产。所述方法包括：第1阶段，在含有二醇类溶剂的溶剂中溶解金属前体；第2阶段，向在所述第1阶段中制造出的溶液中添加有机胺，搅拌至溶液的颜色不发生变化为止；以及第3阶段，在所述第2阶段的添加了有机胺的溶液中慢慢添加从肼衍生物、连二磷酸钠、羟胺和硼氢化钠组成的组中选择出的一种以上的化合物，从而使金属还原析出。