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公开(公告)号:CN103251387A
公开(公告)日:2013-08-21
申请号:CN201310008271.7
申请日:2013-01-09
Applicant: 三星电子株式会社 , 高丽大学校产学协力团
IPC: A61B5/00
CPC classification number: G01B9/02 , A61B5/0066 , G01B9/0201 , G01B9/02058 , G01B9/02091 , G01B2290/65 , G02B26/06 , G02B26/103 , G02B26/105 , G02B2207/117
Abstract: 本发明公开了一种光学探头和包括该光学探头的光学相干断层扫描设备。一种用于将光照射在对象上的光学探头,所述光学探头包括:光路控制单元,控制从外部传输的光的路径;光程控制元件,将光程控制为随着光的路径在光路控制单元中被调节而改变;光学输出单元,输出穿过光程控制元件的光。
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公开(公告)号:CN103622666B
公开(公告)日:2016-08-10
申请号:CN201310227326.3
申请日:2013-06-08
CPC classification number: G01B9/02091 , A61B5/0066
Abstract: 本发明公开一种具有调制和校正器件的断层图像产生装置及其操作方法。所述断层图像产生装置包括:光源单元,发射用于扫描物体的光;光学控制单元,控制光的传播方向;光耦合器,对入射光进行分束并进行合束;多个光学系统,光连接到光耦合器;以及调制和校正器件,对用于扫描物体的光进行调制和校正。调制和校正器件设置在光学控制单元和光耦合器之间。此外,调制和校正器件包括在将光照射到物体上的光学系统中。调制和校正器件可仅对被反射到物体上的光进行调制。
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公开(公告)号:CN103622666A
公开(公告)日:2014-03-12
申请号:CN201310227326.3
申请日:2013-06-08
CPC classification number: G01B9/02091 , A61B5/0066
Abstract: 本发明公开一种具有调制和校正器件的断层图像产生装置及其操作方法。所述断层图像产生装置包括:光源单元,发射用于扫描物体的光;光学控制单元,控制光的传播方向;光耦合器,对入射光进行分束并进行合束;多个光学系统,光连接到光耦合器;以及调制和校正器件,对用于扫描物体的光进行调制和校正。调制和校正器件设置在光学控制单元和光耦合器之间。此外,调制和校正器件包括在将光照射到物体上的光学系统中。调制和校正器件可仅对被反射到物体上的光进行调制。
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公开(公告)号:CN103829924B
公开(公告)日:2017-05-03
申请号:CN201310435950.2
申请日:2013-09-23
CPC classification number: G01B9/02091 , G01B9/02038 , G01B9/02087
Abstract: 本发明公开一种用于产生断层图像的设备和方法,该设备包括:检测单元,将每一束入射光调制成基于至少两个基本调制参数的至少两束基本调制入射光和基于目标调制参数的目标调制入射光,并检测出对象的至少两个基本干涉信号和目标干涉信号;成像单元,分析至少两个基本干涉信号,以输出设定的目标调制参数,所述成像单元将目标干涉信号处理为对象的目标图像,并输出该目标图像。
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公开(公告)号:CN103829924A
公开(公告)日:2014-06-04
申请号:CN201310435950.2
申请日:2013-09-23
CPC classification number: G01B9/02091 , G01B9/02038 , G01B9/02087
Abstract: 本发明公开一种用于产生断层图像的设备和方法,该设备包括:检测单元,将每一束入射光调制成基于至少两个基本调制参数的至少两束基本调制入射光和基于目标调制参数的目标调制入射光,并检测出对象的至少两个基本干涉信号和目标干涉信号;成像单元,分析至少两个基本干涉信号,以输出设定的目标调制参数,所述成像单元将目标干涉信号处理为对象的目标图像,并输出该目标图像。
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公开(公告)号:CN103385694A
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN201310175428.5
申请日:2013-05-13
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: A61B5/00
CPC classification number: A61B5/0073 , A61B5/0066 , A61B5/0082 , A61B5/0091 , A61B5/06
Abstract: 提供了一种用于诊断乳腺癌的光学相干断层扫描设备及其控制方法。所述用于诊断乳腺癌的光学相干断层扫描(OCT)设备包括:干涉仪,将光分为测量光和参考光并且引起参考光和响应光之间的干涉,所述响应光通过使测量光被乳腺导管内部反射而返回;光学探头,光学探头插入到乳腺导管的内部中,光学探头将测量光照射在乳腺导管的内部上、接收通过被乳腺导管的内部反射而返回的响应光,并且将响应光传输到干涉仪;检测单元,检测由响应光和参考光产生的干涉信号,其中,光学探头包括导管膨胀部,当光学探头插入到乳腺导管中时,导管膨胀部通过使其体积膨胀来使乳腺导管膨胀。
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