公开(公告)号：CN111492277A

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN201880081824.2

申请日：2018-11-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李相钦 ,  薛庆一 ,  柳政勋

IPC: G02B5/30 ,  C08L3/08 ,  C08L69/00 ,  C08L33/00 ,  C08L45/00 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1335

Abstract: 本文揭示一种用于共面切换模式的相位差膜、一种包括其的偏光板以及一种包括其的液晶显示器。用于共面切换模式的相位差膜具有约-80纳米至约0纳米的在450纳米波长下的厚度方向相位差Rth(450)、约-60纳米至约10纳米的在550纳米波长下的厚度方向相位差Rth(550)以及约0纳米至约10纳米的在550纳米波长下的平面内相位差(Re)。

公开(公告)号：CN111492277B

公开(公告)日：2022-10-21

申请号：CN201880081824.2

申请日：2018-11-16

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李相钦 ,  薛庆一 ,  柳政勋

IPC: G02B5/30 ,  C08L3/08 ,  C08L69/00 ,  C08L33/00 ,  C08L45/00 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1335

Abstract: 本文揭示一种用于共面切换模式的相位差膜、一种包括其的偏光板以及一种包括其的液晶显示器。用于共面切换模式的相位差膜具有‑80纳米至0纳米的在450纳米波长下的平面外相位差Rth(450)、‑60纳米至10纳米的在550纳米波长下的平面外相位差Rth(550)、‑60纳米至10纳米的在650纳米波长下的平面外相位差Rth(650)以及0纳米至10纳米的在550纳米波长下的平面内相位差(Re)。