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公开(公告)号:CN1155563C
公开(公告)日:2004-06-30
申请号:CN00121778.X
申请日:2000-07-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C261/04
CPC classification number: C07C261/04
Abstract: 将氯化氰与二甲胺在水/有机溶剂体系中进行反应。该有机溶剂不与水混溶。反应完成之后,将水不混溶有机溶剂从反应产物溶液中蒸馏掉,随后在含水体系中合成1,1,3,3-四甲基胍。
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公开(公告)号:CN1140166A
公开(公告)日:1997-01-15
申请号:CN96105129.9
申请日:1996-05-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D213/80 , C07D213/807 , C07C53/08
CPC classification number: C07D213/80
Abstract: 一种生产吡啶羧酸的方法,它经过液相下空气氧化烷基羧酸,烷基吡啶的转化率高,吡啶羧酸的产率高,产物中杂质含量低,无催化剂和溴组分的积聚的副作用,该方法包括在由重金属盐和溴化合物形成的催化剂的存在下,用含氧气体在溶剂中氧化烷基吡啶,所述溶剂是水含量为2~15%重量的低分子脂族单羧酸。或者该方法包括在属于元素周期表第VIII族的金属催化剂的存在下,催化氢化所述的氧化反应混合物或者分离出的吡啶羧酸。
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公开(公告)号:CN1090618C
公开(公告)日:2002-09-11
申请号:CN96105129.9
申请日:1996-05-20
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D213/80 , C07D213/807 , C07C53/08
CPC classification number: C07D213/80
Abstract: 一种生产吡啶羧酸的方法,它经过液相下空气氧化烷基羧酸,烷基吡啶的转化率高,吡啶羧酸的产率高,产物中杂质含量低,无催化剂和溴组分的积聚的副作用,该方法包括在由重金属盐和溴化合物形成的催化剂的存在下,用含氧气体在溶剂中氧化烷基吡啶,所述溶剂是含水量为2~10重量%的低级脂族单羧酸。或者该方法包括在属于元素周期表第VIII族的金属催化剂的存在下,催化氢化所述的氧化反应混合物或者分离出的吡啶羧酸。
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公开(公告)号:CN1282734A
公开(公告)日:2001-02-07
申请号:CN00121778.X
申请日:2000-07-28
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C261/04
CPC classification number: C07C261/04
Abstract: 将氯化氰与二甲胺在水/有机溶剂体系中进行反应。该有机溶剂不与水混溶。反应完成之后,将水不混溶有机溶剂从反应产物溶液中蒸馏掉,随后在含水体系中合成1,1,3,3-四甲基胍。
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