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公开(公告)号:CN104137269B
公开(公告)日:2016-12-28
申请号:CN201380011918.X
申请日:2013-01-31
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/068 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/035272 , H01L31/02167 , H01L31/022441 , H01L31/0682 , H01L31/1804 , H01L31/1824 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 在n型晶体硅基板(2)的与受光面相反一侧的背面,具备n型半导体层(11)以及p型半导体层极(4)、以及在所述p型半导体层(10)上形成了的集电极(3),在所述n型晶体硅基板(2)的受光面侧的表面,具备n型半导体区域(8),在所述n型半导体区域(8),在隔着所述n型晶体硅基板(2)与所述n型半导体层(11)相向的n型半导体区域(8b)、和隔着所述n型晶体硅基板(2)与所述p型半导体层(10)相向的n型半导体区域(8a)中,平均杂质浓度不同。(10)、在所述n型半导体层(11)上形成了的集电
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公开(公告)号:CN104137269A
公开(公告)日:2014-11-05
申请号:CN201380011918.X
申请日:2013-01-31
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01L31/0216 , H01L31/0224 , H01L31/068 , H01L31/18
CPC classification number: H01L31/035272 , H01L31/02167 , H01L31/022441 , H01L31/0682 , H01L31/1804 , H01L31/1824 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 在n型晶体硅基板(2)的与受光面相反一侧的背面,具备n型半导体层(11)以及p型半导体层(10)、在所述n型半导体层(11)上形成了的集电极(4)、以及在所述p型半导体层(10)上形成了的集电极(3),在所述n型晶体硅基板(2)的受光面侧的表面,具备n型半导体区域(8),在所述n型半导体区域(8),在隔着所述n型晶体硅基板(2)与所述n型半导体层(11)相向的n型半导体区域(8b)、和隔着所述n型晶体硅基板(2)与所述p型半导体层(10)相向的n型半导体区域(8a)中,平均杂质浓度不同。
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