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公开(公告)号:CN115210394B
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202180018747.8
申请日:2021-03-08
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明的纯铜板具有以下组成:Cu的含量为99.96质量%以上,P的含量为0.01质量ppm以上且3.00质量ppm以下,Ag及Fe的合计含量为3.0质量ppm以上,剩余部分为不可避免杂质,轧制面中的晶粒的平均晶粒直径为10μm以上,通过EBSD2法,以测定间隔5μm步长测定1mm以上的测定面积,排除通过数据分析软件OIM分析的CI值为0.1以下的测定点,在将相邻的像素间的取向差为5°以上的边界视为晶界时的KAM(Kernel Average Misorientation:平均取向差)值为1.50以下。
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公开(公告)号:CN115210394A
公开(公告)日:2022-10-18
申请号:CN202180018747.8
申请日:2021-03-08
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明的纯铜板具有以下组成:Cu的含量为99.96质量%以上,P的含量为0.01质量ppm以上且3.00质量ppm以下,Ag及Fe的合计含量为3.0质量ppm以上,剩余部分为不可避免杂质,轧制面中的晶粒的平均晶粒直径为10μm以上,通过EBSD法,以测定间隔5μm步长测定1mm2以上的测定面积,排除通过数据分析软件OIM分析的CI值为0.1以下的测定点,在将相邻的像素间的取向差为5°以上的边界视为晶界时的KAM(Kernel Average Misorientation:平均取向差)值为1.50以下。
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公开(公告)号:CN115244197B
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202180018743.X
申请日:2021-03-08
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明的纯铜板具有如下组成:Cu的含量为99.96质量%以上,P的含量为0.01质量ppm以上且3.00质量ppm以下,Pb、Se及Te的合计含量为10.0质量ppm以下,Ag及Fe的合计含量为3.0质量ppm以上,剩余部分为不可避免杂质,轧制面中的晶粒的平均晶粒直径为10μm以上,并且轧制面中的晶粒的纵横比为2.0以下,小倾角晶界及亚晶界相对于总晶界的长度比率以分配率(partition fraction)计为80%以下。
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公开(公告)号:CN115244197A
公开(公告)日:2022-10-25
申请号:CN202180018743.X
申请日:2021-03-08
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明的纯铜板具有如下组成:Cu的含量为99.96质量%以上,P的含量为0.01质量ppm以上且3.00质量ppm以下,Pb、Se及Te的合计含量为10.0质量ppm以下,Ag及Fe的合计含量为3.0质量ppm以上,剩余部分为不可避免杂质,轧制面中的晶粒的平均晶粒直径为10μm以上,并且轧制面中的晶粒的纵横比为2.0以下,所述小倾角晶界及所述亚晶界相对于总晶界的长度比率以分配率(partition fraction)计为80%以下。
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