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公开(公告)号：CN105358490A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201480037826.3
申请日：2014-05-30
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C02F9/00 , B01D9/02 , B01D19/00 , B01D61/08 , B01D61/42 , B01D61/58 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/469 , C02F1/52 , C02F5/00 , C02F5/10 , C02F5/14
CPC classification number: C02F1/52 , B01D9/0036 , B01D19/0005 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/42 , B01D65/08 , B01D2311/04 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/2642 , B01D2311/2649 , B01D2311/2657 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/4691 , C02F1/4693 , C02F1/5281 , C02F1/66 , C02F5/10 , C02F9/00 , C02F2001/007 , C02F2001/5218 , C02F2101/10 , C02F2101/101 , C02F2103/023 , C02F2209/06 , Y02A20/128 , Y02A20/131 , Y02A20/132 , Y02A20/134
Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统包括：第一脱盐部，其将包括Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第一脱盐部的下游侧，且具有使石膏从浓缩水中析晶的第一析晶槽(21)与向第一析晶槽(21)供给石膏的晶种的晶种供给部(22)；第一pH计测部(543)，其对第一析晶槽(21)内的第一浓缩水的pH进行计测；以及控制部(24)，在由第一pH计测部(543)计测出的pH处于钙水垢防止剂的水垢防止功能降低的pH范围内的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量降低，在由第一pH计测部(543)计测出的pH比pH范围高的情况下，该控制部使石膏的晶种的供给量增大。
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公开(公告)号：CN105339313A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201480036187.9
申请日：2014-05-30
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C02F9/00 , B01D9/02 , B01D19/00 , B01D61/08 , B01D61/42 , B01D61/58 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/469 , C02F1/52 , C02F5/00 , C02F5/10 , C02F5/14
CPC classification number: C02F1/52 , B01D9/0036 , B01D19/0005 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/42 , B01D65/08 , B01D2311/04 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/2642 , B01D2311/2649 , B01D2311/2657 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/4691 , C02F1/4693 , C02F1/5281 , C02F1/66 , C02F5/10 , C02F9/00 , C02F2001/007 , C02F2001/5218 , C02F2101/10 , C02F2101/101 , C02F2103/023 , C02F2209/06 , Y02A20/128 , Y02A20/131 , Y02A20/132 , Y02A20/134
Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。
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公开(公告)号：CN108178253A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201711469301.9
申请日：2012-08-03
Applicant: 三菱日立电力系统环保株式会社 , 三菱重工业株式会社
IPC: C02F1/469 , C02F5/00 , C02F1/46 , B01D17/06 , C02F101/10 , C02F101/14 , C02F103/06
CPC classification number: C02F1/4691 , B01D17/06 , C02F1/008 , C02F1/4602 , C02F1/4604 , C02F5/00 , C02F2101/10 , C02F2101/14 , C02F2103/007 , C02F2103/06 , C02F2201/46145 , C02F2201/4615
Abstract: 本发明提供一种脱盐处理装置以及脱盐处理装置的运行方法。本发明的脱盐处理装置(1)具备静电脱盐处理部(10、60)，在再生工序之前的脱盐工序，在根据脱盐部(4)的保有水量与供给水流量来推导出的期间，向供给水中投入防垢剂，在经过规定时间之后或者达到规定的离子浓度之后，停止防垢剂的投入。本发明的脱盐处理装置(1)在静电脱盐处理部(10)的停止时向供给水中投入防垢剂，在经过规定时间之后或者达到规定的离子浓度之后，停止防垢剂的投入。或者，在静电脱盐处理部(30、60)的停止时，将基于脱盐部(4)的保有水量的量的低离子浓度水输送到静电脱盐处理部(30、60)。由此，可靠地防止静电脱盐处理装置内的水垢的析出。
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公开(公告)号：CN105408008B
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201480041630.1
申请日：2014-12-08
Applicant: 三菱重工业株式会社
CPC classification number: C02F5/00 , B01D61/022 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/10 , B01D61/12 , B01D2311/04 , B01D2311/08 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/246 , C02F1/008 , C02F1/441 , C02F1/66 , C02F2101/101 , C02F2301/046 , B01D2311/2642
Abstract: 本浓缩装置的水垢检测装置具备：作为浓缩装置的反渗透膜装置(13)，其具有作为滤膜的反渗透膜(13a)，该反渗透膜(13a)对至少包含石膏的被处理水(11)浓缩盐分，获得淡水(12)；以及水垢检测部(15)，其设置在从用于排出盐分被浓缩的浓缩水(14)的浓缩水管线(L13)分支出的分支管线(L14)上，具有对上述浓缩水(14)进一步浓缩盐分，获得检测用淡水(16)并且检测浓缩水(14)中有无析出水垢成分的检测膜(15a)。
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公开(公告)号：CN105339313B
公开(公告)日：2017-12-22
申请号：CN201480036187.9
申请日：2014-05-30
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C02F9/00 , B01D9/02 , B01D19/00 , B01D61/08 , B01D61/42 , B01D61/58 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/469 , C02F1/52 , C02F5/00 , C02F5/10 , C02F5/14
CPC classification number: C02F1/52 , B01D9/0036 , B01D19/0005 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/42 , B01D65/08 , B01D2311/04 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/2642 , B01D2311/2649 , B01D2311/2657 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/4691 , C02F1/4693 , C02F1/5281 , C02F1/66 , C02F5/10 , C02F9/00 , C02F2001/007 , C02F2001/5218 , C02F2101/10 , C02F2101/101 , C02F2103/023 , C02F2209/06 , Y02A20/128 , Y02A20/131 , Y02A20/132 , Y02A20/134
Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。在本发明的水处理系统(300)以及水处理方法中，向包含Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的被处理水供给水垢防止剂，将被处理水调整为二氧化硅能够溶解的pH。添加有钙水垢防止剂且调整了pH的被处理水在第一脱盐部(10)中分离为浓缩有Ca离子、SO4离子、碳酸离子以及二氧化硅的浓缩水与处理水。在第一析晶部(20)中向第一浓缩水供给石膏的晶种，石膏析晶而被从第一浓缩水中去除。被处理水中的二氧化硅在第一析晶部(20)的被处理水下游侧被从第一浓缩水中去除。被处理水中的碳酸钙在第一脱盐部(10)的上游侧或者第一析晶部(20)的下游侧被从第一浓缩水中去除。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105377771B
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201480038042.2
申请日：2014-05-30
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C02F9/00 , B01D9/02 , B01D19/00 , B01D61/08 , B01D61/42 , B01D61/58 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/469 , C02F1/52 , C02F5/00 , C02F5/10 , C02F5/14
CPC classification number: C02F1/52 , B01D9/0036 , B01D19/0005 , B01D61/025 , B01D61/04 , B01D61/42 , B01D65/08 , B01D2311/04 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/2642 , B01D2311/2649 , B01D2311/2657 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/4691 , C02F1/4693 , C02F1/5281 , C02F1/66 , C02F5/10 , C02F9/00 , C02F2001/007 , C02F2001/5218 , C02F2101/10 , C02F2101/101 , C02F2103/023 , C02F2209/06 , Y02A20/128 , Y02A20/131 , Y02A20/132 , Y02A20/134
Abstract: 本发明提供能够以较高的水回收率使包含盐类的水再生的水处理系统以及水处理方法。本发明的水处理系统(100)具备：第二脱盐部(210a、210b)，其将包含Ca离子、SO4离子以及碳酸离子的被处理水分离为浓缩有Ca离子以及SO4离子的浓缩水与处理水；析晶部，其设置在第二脱盐部(210a、210b)的下游侧，具有使石膏从浓缩水中析晶的第二析晶槽(221a、221b)以及向第二析晶槽(221a、221b)供给石膏的晶种的晶种供给部；以及分离部，其在析晶部的下游侧将石膏从浓缩水中分离。
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公开(公告)号：CN106659980A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201480081417.3
申请日：2014-09-03
Applicant: 三菱重工业株式会社
CPC classification number: C02F1/44 , B01D61/12 , B01D65/02 , B01D65/06 , B01D65/08 , B01D65/10 , B01D2315/20 , B01D2321/16 , C02F1/008 , C02F1/441 , C02F1/442 , C02F1/445 , C02F1/447 , C02F2301/043 , C02F2303/22
Abstract: 本发明提供一种水处理装置的附着物监控装置、水处理装置及其运行方法以及水处理装置的清洗方法。本发明的水处理装置的附着物监控装置具备：非透过水管路(L11)，从分离膜装置排出浓缩溶解成分和分散成分而成的非透过水(15)，所述分离膜装置从被处理水(11)通过分离膜浓缩溶解成分和分散成分而获得透过水；第1附着物检测部(24A)，设置于从非透过水管路(L11)分支的非透过水分支管路(L12)，且具有第1检测用分离膜(21A)，所述第1检测用分离膜(21A)将分支的非透过水的一部分作为检测液(15a)并将该检测液(15a)分离为检测用透过水(22)和检测用非透过水(23)；附着条件变更装置，变更附着于第1检测用分离膜(21A)的附着物的附着条件；及第1检测用分离液流量测量装置，测量在第1检测用分离膜(21A)中分离的检测用透过水(22)或检测用非透过水(23)的任一者或两者的流量。
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公开(公告)号：CN105050963A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201380075018.1
申请日：2013-03-29
Applicant: 三菱重工机电系统株式会社 , 三菱重工业株式会社
Abstract: 可靠地防止脱盐处理的再生工序中的水垢的析出。本发明的水再生系统(1)以及脱盐处理装置(4)具备：脱盐部(10)、向被处理水供给防水垢剂的供给部(20)、以及控制部(40)。控制部(40)根据脱盐部(10)内的水垢成分的浓度，获取防水垢剂以及低离子浓度水中的至少一方的供给开始时间和供给停止时间，在供给开始时间与供给停止时间之间的期间使供给部(20)实施防水垢剂以及低离子浓度水中的至少一方的供给。
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公开(公告)号：CN104507875A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201280074931.5
申请日：2012-08-03
Applicant: 三菱重工机电系统株式会社 , 三菱重工业株式会社
CPC classification number: C02F9/00 , B01D61/46 , B01J49/70 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/441 , C02F1/4691 , C02F1/72 , C02F1/722 , C02F1/76 , C02F3/00 , C02F3/06 , C02F3/1268 , C02F2101/30 , C02F2201/46 , C02F2209/20 , C02F2303/22 , Y02A20/131 , Y02A20/134 , Y02W10/15
Abstract: 提供一种能够抑制静电脱盐处理部的电极恶化并保持较高的水处理能力的水处理装置。水处理装置(1)包括：活性炭处理部(10)，总有机碳浓度为100mg/l以下的水流入到该活性炭处理部(10)，吸附并去除水中含有的有机物；以及静电脱盐处理部(100)，其在活性炭处理部(10)的下游侧具备被施加彼此相反极性的电压的一对电极(101、102)、流通路(105)、以及离子交换膜(104、105)，水中含有的离子吸附于被施加电压的电极(101、102)，并且对电极(101、102)施加与吸附离子时相反的电压，离子从电极(101、102)脱离。
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公开(公告)号：CN107922213A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201580081693.4
申请日：2015-08-05
Applicant: 三菱重工业株式会社
IPC: C02F1/00
CPC classification number: C02F1/008 , C02F1/00 , C02F1/048 , C02F1/20 , C02F1/42 , C02F1/5209 , C02F1/72 , C02F5/08 , C02F9/00 , C02F2101/10 , C02F2209/001 , C02F2209/03 , C02F2209/06 , C02F2209/10 , C02F2209/40 , C02F2303/16
Abstract: 本发明提供一种水处理系统、发电成套设备及水处理系统的控制方法，本发明的水处理系统(10A)处理从成套设备排出的废水(31)，且具备：处理废水(31)的水处理设备(50)；从成套设备中获取成套设备运行信息的第1运行数据获取部(41)；根据在第1运行数据获取部(40)中获取的成套设备运行信息(40)预测废水(31)的水质的水质预测部(42)；及根据在水质预测部(42)预测到的预测水质(43)而对水处理设备(50)的运行条件进行前馈控制(45)的控制部(44)。
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