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公开(公告)号：CN106986760A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710109801.5
申请日：2017-02-28
申请人： 上海大学
摘要： 本发明公开了一种利用磁场制备大尺寸草酸稀土的方法，将氧化稀土配成一定浓度的稀土溶液作为原料液，并且以草酸铵作为沉淀剂，然后，在磁场下将定量的草酸沉淀剂缓慢的滴加到稀土溶液中，将得到的沉淀经过滤和清洗后，放于烘箱中进行干燥，得到具有大尺寸的草酸稀土粉末。在整个制备过程中，利用稀土元素具有的超顺磁特性，在对稀土溶液进行沉淀的同时施加外加磁场，达到获得大尺寸草酸稀土的目的。本发明所提供的利用外加磁场制备大尺寸草酸稀土的方法，工艺简单，可操作性强，周期短，成本低廉，利于规模化生产，对于满足工业上对大尺寸稀土氧化物的需求具有一定意义。
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公开(公告)号：CN108796238A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810729372.6
申请日：2018-07-04
申请人： 上海大学
摘要： 本发明公开一种静磁软接触搅拌复合等离子体电弧熔炼装置，包括炉体，所述炉体内安装有水冷铜坩埚和钨电极，所述钨电极位于所述水冷铜坩埚上方，所述水冷铜坩埚上开设有用于放置金属原料的凹槽；所述水冷铜坩埚侧壁上穿设有传动轴，所述传动轴位于所述水冷铜坩埚外的一端连接有步进电机，所述传动轴位于所述水冷铜坩埚内的一端套设有两个转盘，所述转盘内交错设置有磁性相反的磁体，所述转盘位于所述凹槽两侧。本发明还提供一种采用上述静磁软接触搅拌复合等离子体电弧熔炼装置的熔炼方法，无需翻转金属，通过静磁软接触搅拌达到对水冷铜坩埚底部未熔金属熔炼的目的。
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公开(公告)号：CN108788040A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810725889.8
申请日：2018-07-04
申请人： 上海大学
IPC分类号： B22D11/116 , B22D11/115 , C23C14/34
CPC分类号： B22D11/116 , B22D11/115 , C23C14/3414
摘要： 本发明公开一种氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置，包括两个对称设置的固定架，两个固定架之间活动连接有多个水冷辊和驱动辊，水冷辊位于驱动辊斜上方，且与驱动辊啮合；固定架下方连接有结晶器，结晶器外壁缠绕有感应线圈，结晶器下方连接有引锭杆；多个水冷辊成“V”字形设置于结晶器上方；固定架上方安装有送料装置、源气体输送装置和电极装置。本发明提供的氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置，采用多辊的单向转动实现反应槽底部未熔化金属的熔化，精炼后的金属靶坯熔体流入结晶器内进行电磁软接触连续铸造，进而获得高纯度、高致密度和具有一定取向的棒状溅射靶坯。
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公开(公告)号：CN109654879B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201910113540.3
申请日：2019-02-14
申请人： 上海大学
摘要： 本发明公开一种等离子弧熔炼复合永磁体混沌搅拌装置。该混沌搅拌装置包括炉体，炉体内设置水冷铜坩埚；水冷铜坩埚上表面中心为一凹槽，用于放置金属原料，内部为中空腔体；中空腔体内，凹槽正下方，设置回水管；回水管上端竖直向上，并水平设置过滤网，过滤网与凹槽之间放置球形磁体；水冷铜坩埚一侧设置第一进水管道、第一出水管道；第一进水管道连接至中空腔体，第一出水管道连接至回水管底部，使水冷铜坩埚内形成一个水流通道，通入冷却水，利用冷却水流的不稳定性，使球形磁体位置不断变化，磁力作用下，使凹槽内的金属发生旋转，底部的固态部分不断翻转重新被熔炼。本发明的混沌搅拌装置能够缩短熔炼步骤，节省熔炼时间，提升熔炼效率。
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公开(公告)号：CN108796238B
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201810729372.6
申请日：2018-07-04
申请人： 上海大学
摘要： 本发明公开一种静磁软接触搅拌复合等离子体电弧熔炼装置，包括炉体，所述炉体内安装有水冷铜坩埚和钨电极，所述钨电极位于所述水冷铜坩埚上方，所述水冷铜坩埚上开设有用于放置金属原料的凹槽；所述水冷铜坩埚侧壁上穿设有传动轴，所述传动轴位于所述水冷铜坩埚外的一端连接有步进电机，所述传动轴位于所述水冷铜坩埚内的一端套设有两个转盘，所述转盘内交错设置有磁性相反的磁体，所述转盘位于所述凹槽两侧。本发明还提供一种采用上述静磁软接触搅拌复合等离子体电弧熔炼装置的熔炼方法，无需翻转金属，通过静磁软接触搅拌达到对水冷铜坩埚底部未熔金属熔炼的目的。
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公开(公告)号：CN108788040B
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201810725889.8
申请日：2018-07-04
申请人： 上海大学
IPC分类号： B22D11/116 , B22D11/115 , C23C14/34
摘要： 本发明公开一种氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置，包括两个对称设置的固定架，两个固定架之间活动连接有多个水冷辊和驱动辊，水冷辊位于驱动辊斜上方，且与驱动辊啮合；固定架下方连接有结晶器，结晶器外壁缠绕有感应线圈，结晶器下方连接有引锭杆；多个水冷辊成“V”字形设置于结晶器上方；固定架上方安装有送料装置、源气体输送装置和电极装置。本发明提供的氢等离子熔炼连续铸造生产高纯金属靶坯的装置，采用多辊的单向转动实现反应槽底部未熔化金属的熔化，精炼后的金属靶坯熔体流入结晶器内进行电磁软接触连续铸造，进而获得高纯度、高致密度和具有一定取向的棒状溅射靶坯。
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公开(公告)号：CN109654879A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201910113540.3
申请日：2019-02-14
申请人： 上海大学
摘要： 本发明公开一种等离子弧熔炼复合永磁体混沌搅拌装置。该混沌搅拌装置包括炉体，炉体内设置水冷铜坩埚；水冷铜坩埚上表面中心为一凹槽，用于放置金属原料，内部为中空腔体；中空腔体内，凹槽正下方，设置回水管；回水管上端竖直向上，并水平设置过滤网，过滤网与凹槽之间放置球形磁体；水冷铜坩埚一侧设置第一进水管道、第一出水管道；第一进水管道连接至中空腔体，第一出水管道连接至回水管底部，使水冷铜坩埚内形成一个水流通道，通入冷却水，利用冷却水流的不稳定性，使球形磁体位置不断变化，磁力作用下，使凹槽内的金属发生旋转，底部的固态部分不断翻转重新被熔炼。本发明的混沌搅拌装置能够缩短熔炼步骤，节省熔炼时间，提升熔炼效率。
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