热扩散连续制备高硅钢片的方法及其高硅钢片连轧装置

    公开(公告)号:CN103014613B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201210589066.X

    申请日:2012-12-31

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: C23C10/30 C21D8/12

    摘要: 本发明公开了一种热扩散连续制备高硅钢片方法,由空心低硅钢板带的制备、布料、轧制、高温扩散和收卷五个步骤组成,通过布料实现将含高硅粉末均匀分布在两低硅钢板之间,轧制实现含高硅粉末与低硅钢板的紧密机械结合,高温扩散实现冶金结合,放卷、收卷实现连续制备的可能,实现连续制备含硅量不低于6.5wt.%Si的高硅钢薄带。本发明还提供一种高硅钢片连轧装置,包括自上而下依次设置的布料装置、放卷引导装置、轧制装置、高温扩散装置和收卷装置,本发明解决了传统轧制法制备高硅钢的硅钢脆性大的问题,能近终成型连续制备高硅钢薄带,轧制过程工艺简单,能量消耗较低,成材率高,属于绿色无污染的洁净制备技术,易于应用于工业生产。

    磁场下连续制备高硅钢薄带的方法及装置

    公开(公告)号:CN102925937B

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201210327475.2

    申请日:2012-09-07

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: C25D5/00 C25D15/00

    摘要: 本发明旨在提供一种连续制备高硅钢薄带的方法和装置。本方法采用复合电镀方法,在镀铁溶液中加入0.1~3μm的硅铁合金粉末,以低硅钢带作为电解阴极,在复合电解液中被镀上7.0Wt%~99wt%Si的厚复合镀层,经热处理后得到均匀的6.5wt%Si的高硅钢薄带,可以实现连续制备。本装置是在传统的复合电镀装置基础上,通过施加磁场强度为0.001~20T的恒定磁场,通过磁场使作为阴极的低硅钢薄带磁化,并在表面形成很强的梯度场,利用磁场力将镀液中的硅铁合金颗粒吸附在低硅钢带阴极表面,进而通过复合镀铁过程获得高硅镀层,然后经后续的气氛保护热处理,就可以制备出硅含量达6.5wt%的高性能高硅钢薄带。本发明操作简单,低温增硅操作,成本低廉,并且可以连续制备高硅钢带材。

    自然沉降连续制备高硅钢薄带的方法及高硅钢薄带连续制备装置

    公开(公告)号:CN103060746B

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201310008249.2

    申请日:2013-01-10

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: C23C10/20 C21D9/54 C21D1/26

    摘要: 本发明公开了一种自然沉降连续制备高硅钢薄带的方法,由含硅粉末的制备、含硅粉末分散液制备、高硅粉末层制备和均匀化扩散退火四个主要步骤组成,将含硅粉末加入到分散液载体中,并加入分散剂使含硅粉末成悬浮状态,再将低硅钢薄带恒速通过含硅粉末的分散液,利用含硅粉末自然重力沉积在低硅钢薄带上,形成高硅粉末层,然后经烘干和经过扩散炉进行充分扩散,即可制备出不低于6.5wt.%Si的高硅钢薄带。本发明还提供一种高硅钢片连续制备装置,包括布料装置、分散液储槽、搅拌装置、硅钢薄带引导传送装置、真空干燥箱、扩散退火装置和高硅钢带卷绕收集装置,能近终成型连续制备高硅钢薄带,无需轧制,制备工艺简单,能量消耗较低,易于工业生产。

    电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置

    公开(公告)号:CN103320842B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201310258003.0

    申请日:2013-06-26

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: C25D15/00 C22C33/00 C22C38/02

    摘要: 本发明公开了一种电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法,采用纯铁薄带、低碳钢薄带或低硅硅钢薄带作为阴极镀件薄带,以电刷镀阳极板为阳极,通过电刷复合镀硅工艺在阴极镀件薄带上覆盖一层铁-硅铁颗粒复合镀层,形成芯部为钢带基体的复合镀层钢带,再进行均匀化扩散热处理,使铁-硅铁颗粒复合镀层中的含硅颗粒均匀扩散至芯部的钢带基体中,从而连续制备高硅钢薄带。本发明还公开了一种硅钢带连续制备装置,包括放卷引导装置、输送装置、电镀装置、扩散热处理装置和收卷装置。本发明利用对阴极镀件薄带电镀高硅镀层,然后经过热处理工艺来获得具有优异磁性能的高硅硅钢薄带,操作简单,具有高效、可连续制备的特点,可大幅度降低制备成本。

    连续制备高硅钢片的方法及连铸装置

    公开(公告)号:CN104259410A

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201410444492.3

    申请日:2014-09-03

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: B22D11/06 B22D11/115

    CPC分类号: B22D11/06 B22D11/115

    摘要: 本发明公开了一种连续制备高硅钢片的方法和连铸装置,将纯铁粉和硅粉以一定质量百分比放入熔池中进行合金熔配,整个过程中熔池都处在磁轭线圈产生的强磁场区域中,待合金熔化并混合均匀后,通过上方高速旋转的带齿的水冷铜盘实现快速冷却形成高硅钢薄带,并通过斜上方处气刀将薄片吹开并从铜盘上可靠剥离,从而达到直接提取法制备高硅钢片的目的,从铜盘上剥离出来的高硅钢片将进入下面配置有软垫或气垫的收集室中。通过控制水冷铜盘齿面与合金熔体的浸入深度、水冷铜盘的冷却水流量、水冷铜盘的旋转速度以及外加强静磁场的磁场强度,可以控制硅钢片的厚度和内部及表面质量。通过控制水冷铜盘齿面尺寸来控制高硅钢片的宽度和长度。

    连续制备高硅钢片的方法及连铸装置

    公开(公告)号:CN104259410B

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201410444492.3

    申请日:2014-09-03

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: B22D11/06 B22D11/115

    摘要: 本发明公开了一种连续制备高硅钢片的方法和连铸装置,将纯铁粉和硅粉以一定质量百分比放入熔池中进行合金熔配,整个过程中熔池都处在磁轭线圈产生的强磁场区域中,待合金熔化并混合均匀后,通过上方高速旋转的带齿的水冷铜盘实现快速冷却形成高硅钢薄带,并通过斜上方处气刀将薄片吹开并从铜盘上可靠剥离,从而达到直接提取法制备高硅钢片的目的,从铜盘上剥离出来的高硅钢片将进入下面配置有软垫或气垫的收集室中。通过控制水冷铜盘齿面与合金熔体的浸入深度、水冷铜盘的冷却水流量、水冷铜盘的旋转速度以及外加强静磁场的磁场强度,可以控制硅钢片的厚度和内部及表面质量。通过控制水冷铜盘齿面尺寸来控制高硅钢片的宽度和长度。

    电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法及硅钢带连续制备装置

    公开(公告)号:CN103320842A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201310258003.0

    申请日:2013-06-26

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: C25D15/00 C22C33/00 C22C38/02

    摘要: 本发明公开了一种电刷复合镀法制备高硅硅钢薄带的方法,采用纯铁薄带、低碳钢薄带或低硅硅钢薄带作为阴极镀件薄带,以电刷镀阳极板为阳极,通过电刷复合镀硅工艺在阴极镀件薄带上覆盖一层铁-硅铁颗粒复合镀层,形成芯部为钢带基体的复合镀层钢带,再进行均匀化扩散热处理,使铁-硅铁颗粒复合镀层中的含硅颗粒均匀扩散至芯部的钢带基体中,从而连续制备高硅钢薄带。本发明还公开了一种硅钢带连续制备装置,包括放卷引导装置、输送装置、电镀装置、扩散热处理装置和收卷装置。本发明利用对阴极镀件薄带电镀高硅镀层,然后经过热处理工艺来获得具有优异磁性能的高硅硅钢薄带,操作简单,具有高效、可连续制备的特点,可大幅度降低制备成本。

    自然沉降连续制备高硅钢薄带的方法及高硅钢薄带连续制备装置

    公开(公告)号:CN103060746A

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:CN201310008249.2

    申请日:2013-01-10

    申请人: 上海大学

    IPC分类号: C23C10/20 C21D9/54 C21D1/26

    摘要: 本发明公开了一种自然沉降连续制备高硅钢薄带的方法,由含硅粉末的制备、含硅粉末分散液制备、高硅粉末层制备和均匀化扩散退火四个主要步骤组成,将含硅粉末加入到分散液载体中,并加入分散剂使含硅粉末成悬浮状态,再将低硅钢薄带恒速通过含硅粉末的分散液,利用含硅粉末自然重力沉积在低硅钢薄带上,形成高硅粉末层,然后经烘干和经过扩散炉进行充分扩散,即可制备出不低于6.5wt.%Si的高硅钢薄带。本发明还提供一种高硅钢片连续制备装置,包括布料装置、分散液储槽、搅拌装置、硅钢薄带引导传送装置、真空干燥箱、扩散退火装置和高硅钢带卷绕收集装置,能近终成型连续制备高硅钢薄带,无需轧制,制备工艺简单,能量消耗较低,易于工业生产。