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公开(公告)号:CN119400915A
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202411510936.9
申请日:2024-10-28
Applicant: 上海恩捷新材料科技有限公司 , 东华大学
IPC: H01M8/1041 , H01M8/1067 , H01M8/1065 , H01M8/1069 , C25B13/08 , C25B1/04
Abstract: 本申请公开了离子溶剂化膜及其制备方法,该离子溶剂化膜包括骨架材料和增塑剂,该离子溶剂化膜包括骨架材料和增塑剂,所述骨架材料与所述增塑剂之间所形成的孔隙结构包括平均孔径相对较小的小孔结构和平均孔径相对较大的大孔结构,并且所述小孔结构与所述大孔结构相连通。本申请提出的离子溶剂化膜,通过增塑剂增加了膜的孔隙率,改善了膜的孔隙结构和离子迁移通道,提高了膜的离子导电率;还增加了离子溶剂化膜的机械强度,增强了膜的亲水性,促进了电解液的渗透和吸收,生产成本较低,利于大规模商业使用。