一种两回路间接循环式超临界水堆

    公开(公告)号:CN119069148B

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202411535120.1

    申请日:2024-10-31

    Abstract: 本发明涉及一种两回路间接循环式超临界水堆。该两回路间接循环式超临界水堆包括一回路系统,包括经由第一管路串联的压力容器、主换热器、主泵和稳压装置,压力容器内设有水堆,主泵用于驱动一回路冷却剂沿第一管路流动,使一回路冷却剂经由稳压装置进入水堆压力容器的堆芯,并吸收堆芯产生的热量并进入主换热器,在一回路系统中一回路冷却剂运行在水的超临界态以上;二回路系统,包括接入主换热器的第二管路,二回路工质运行于第二管路内,二回路工质与一回路冷却剂在主换热器内交换热量,二回路系统用于向第二管路连接的外部设备提供热能。本发明能够提升超临界水堆的运行稳定性和安全性。

    一种两回路间接循环式超临界水堆

    公开(公告)号:CN119069148A

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202411535120.1

    申请日:2024-10-31

    Abstract: 本发明涉及一种两回路间接循环式超临界水堆。该两回路间接循环式超临界水堆包括一回路系统,包括经由第一管路串联的压力容器、主换热器、主泵和稳压装置,压力容器内设有水堆,主泵用于驱动一回路冷却剂沿第一管路流动,使一回路冷却剂经由稳压装置进入水堆压力容器的堆芯,并吸收堆芯产生的热量并进入主换热器,在一回路系统中一回路冷却剂运行在水的超临界态以上;二回路系统,包括接入主换热器的第二管路,二回路工质运行于第二管路内,二回路工质与一回路冷却剂在主换热器内交换热量,二回路系统用于向第二管路连接的外部设备提供热能。本发明能够提升超临界水堆的运行稳定性和安全性。

    反应堆控制系统及反应堆
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118335365A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410342066.2

    申请日:2024-03-25

    Abstract: 本发明提供了一种反应堆控制系统及反应堆,反应堆控制系统包括:至少一组控制组件,每组控制组件包括至少一个控制组件;液压回路系统,包括至少一个液压箱以及至少一个吸收体流动管路,每个吸收体流动管路与对应的液压箱连通,其中,每个液压箱包括液压活塞,液压活塞与驱动杆相连接,至少一个吸收体流动管路以及至少一个液压箱中均包括液态中子吸收体以及惰性气体,每个吸收体流动管路部分伸入对应的一组控制组件中;至少一个驱动机构,每个驱动机构包括连接液压活塞的驱动杆,用于驱动液压活塞移动,从而控制液态中子吸收体进入对应的一组控制组件中的位置。本申请提供的反应堆控制系统及反应堆能够提高反应堆的安全性,节约反应堆内部空间。

    一种用于大尺寸单晶硅的径向匀照装置及方法

    公开(公告)号:CN117107364A

    公开(公告)日:2023-11-24

    申请号:CN202310929383.X

    申请日:2023-07-26

    Abstract: 本发明属于核反应堆工程技术领域,提出了一种用于大尺寸单晶硅的径向匀照装置及方法,包括桶体、设置在所述桶体外侧的中子屏、设置在桶体内的至少一个反射块以及设置在桶体内的旋转驱动机构;用于放置硅碇的桶体外侧的中子屏,以及在桶体内的至少一个反射块和旋转驱动机构;中子屏周向上开设有缝隙,进行辐照时,所述旋转驱动机构带动中子屏中的硅碇不停旋转,硅碇径向外侧部分不断交替进入不同程度的中子通量区域;反射块位于硅碇的端部,进入反射块中的中子,经过散射,从端面对硅碇进行辐照。在单晶硅外部位置放置中子屏和反射块,从而改变中子进入硅碇的位置和方向,辐照中配合对硅碇进行转动,实现对大尺寸单晶硅辐照掺杂的径向均匀化。

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