一种抑制可调涡旋光旁瓣分量的装置

    公开(公告)号:CN109828369B

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN201910186866.9

    申请日:2019-03-13

    IPC分类号: G02B26/00 G02B27/28

    摘要: 本发明提出一种抑制可调涡旋光旁瓣分量的装置,包括可调螺旋相位板、不透光液体注入管、透光液体注入管、微流管道和微流管道支架;其中,微流管道支架的中心位置设有嵌合孔;微流管道盖设于嵌合孔上;可调螺旋相位板置于微流管道的正下方,且正对嵌合孔的位置设置;微流管道的一端设有透光液体注入口,微流管道的另一端设有不透光液体注入口;透光液体注入管与透光液体注入口相连接,不透光液体注入管与不透光液体注入口相连接,以解决现有抑制涡旋光旁瓣的研究方法中,存在的难以根据涡旋光拓扑荷数的变化来实时调控旁瓣抑制方案,保持最佳抑制效果的问题。

    一种抑制可调涡旋光旁瓣分量的装置

    公开(公告)号:CN109828369A

    公开(公告)日:2019-05-31

    申请号:CN201910186866.9

    申请日:2019-03-13

    IPC分类号: G02B26/00 G02B27/28

    摘要: 本发明提出一种抑制可调涡旋光旁瓣分量的装置,包括可调螺旋相位板、不透光液体注入管、透光液体注入管、微流管道和微流管道支架;其中,微流管道支架的中心位置设有嵌合孔;微流管道盖设于嵌合孔上;可调螺旋相位板置于微流管道的正下方,且正对嵌合孔的位置设置;微流管道的一端设有透光液体注入口,微流管道的另一端设有不透光液体注入口;透光液体注入管与透光液体注入口相连接,不透光液体注入管与不透光液体注入口相连接,以解决现有抑制涡旋光旁瓣的研究方法中,存在的难以根据涡旋光拓扑荷数的变化来实时调控旁瓣抑制方案,保持最佳抑制效果的问题。

    新型阵列涡旋光束对微观粒子分级筛选的方法及系统

    公开(公告)号:CN111028974B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN201911254181.X

    申请日:2019-12-06

    IPC分类号: G21K1/00

    摘要: 本发明提出了新型阵列涡旋光束对微观粒子分级筛选的方法及系统,系统将激光器产生的激光束经匀光板得到一束均匀的等强度光束,再通过透镜组将均匀光束准直扩束,扩束后的均匀光束垂直入射光孔阵列板上,得到等强度均匀光阵列,通过光孔出射后的等强度的均匀光阵列入射到由螺旋相位板排布成M行L列的阵列板上,通过差异化设置每列的SPP的高度,得到在不同列位置上具有不同拓扑荷值的出射涡旋光阵列,最后通过透镜阵列,聚焦在远场,得到聚焦涡旋光束阵列的夫琅禾费衍射场,把微流体室放在聚焦涡旋光束阵列的夫琅禾费衍射场范围内。由于在各列位置的涡旋光束具有不同的拓扑荷,因此可根据涡旋光束光场力的差异,对微流体室中微观粒子进行分级筛选。

    新型阵列涡旋光束对微观粒子分级筛选的方法及系统

    公开(公告)号:CN111028974A

    公开(公告)日:2020-04-17

    申请号:CN201911254181.X

    申请日:2019-12-06

    IPC分类号: G21K1/00

    摘要: 本发明提出了新型阵列涡旋光束对微观粒子分级筛选的方法及系统,系统将激光器产生的激光束经匀光板得到一束均匀的等强度光束,再通过透镜组将均匀光束准直扩束,扩束后的均匀光束垂直入射光孔阵列板上,得到等强度均匀光阵列,通过光孔出射后的等强度的均匀光阵列入射到由螺旋相位板排布成M行L列的阵列板上,通过差异化设置每列的SPP的高度,得到在不同列位置上具有不同拓扑荷值的出射涡旋光阵列,最后通过透镜阵列,聚焦在远场,得到聚焦涡旋光束阵列的夫琅禾费衍射场,把微流体室放在聚焦涡旋光束阵列的夫琅禾费衍射场范围内。由于在各列位置的涡旋光束具有不同的拓扑荷,因此可根据涡旋光束光场力的差异,对微流体室中微观粒子进行分级筛选。