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公开(公告)号：CN101899655B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201010208881.8
申请日：2010-06-24
Applicant: 上海电力学院
Abstract: 本发明公开了一种在铜表面形成具有荧光特性的氨基酸自组装缓蚀膜的方法，即将纯铜先经1#～6#金相砂纸逐级打磨抛光、无水乙醇除油、去离子水洗净后，备用；首先用氨基酸水溶液处理铜试片，得到氨基酸修饰的铜试片，然后通过荧光试剂1-萘胺二乙酸钠(NADA)与氨基酸之间的静电吸引作用将荧光试剂间接组装到铜试片表面，制备了双层光敏缓蚀自组装缓蚀功能膜，采用荧光光谱和电化学阻抗法分别对其荧光性质和缓蚀效果进行表征。研究表明具有荧光特特性的缓蚀功能膜，荧光强度和缓蚀性能之间的具有相关性，可以通过荧光信号对组装膜的缓蚀特性进行在线检测和实时监控，这对推动氨基酸自组膜的应用具有重大意义。
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公开(公告)号：CN101899655A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010208881.8
申请日：2010-06-24
Applicant: 上海电力学院
Abstract: 本发明公开了一种在铜表面形成具有荧光特性的氨基酸自组装缓蚀膜的方法，即将纯铜先经1#～6#金相砂纸逐级打磨抛光、无水乙醇除油、去离子水洗净后，备用；首先用氨基酸水溶液处理铜试片，得到氨基酸修饰的铜试片，然后通过荧光试剂1-萘胺二乙酸钠(NADA)与氨基酸之间的静电吸引作用将荧光试剂间接组装到铜试片表面，制备了双层光敏缓蚀自组装缓蚀功能膜，采用荧光光谱和电化学阻抗法分别对其荧光性质和缓蚀效果进行表征。研究表明具有荧光特特性的缓蚀功能膜，荧光强度和缓蚀性能之间的具有相关性，可以通过荧光信号对组装膜的缓蚀特性进行在线检测和实时监控，这对推动氨基酸自组膜的应用具有重大意义。
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