MIPI信号解码方法、装置及其芯片

    公开(公告)号:CN114297110B

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202111629782.1

    申请日:2021-12-28

    IPC分类号: G06F13/38 G06F13/42

    摘要: 本发明提供了一种MIPI信号解码方法、装置及其芯片,该方法包括:通过所述MIPI接口接收来自图像传感器的原始数据转换后的两通道MIPI数据,所述原始数据的数据类型为RAW格式,将所述两通道的MIPI数据转换为两通道的比特数据,其中,不同通道的比特数据分时复用;将每个通道的比特数据按照像素点序号的奇偶顺序分别写入不同的存储器中;当一行像素点的比特数据写入完成后,按照像素点序号顺序依次从不同的存储器中读取所行像素的比特数据,并输出满足并行接口的并行数据,该方法可以实现在依赖MIPI接口传输图像信号时,将MIPI数据解码为满足并行接口的并行数据。

    CIS芯片的像元结构、微透镜阵列、图像传感器及制作方法

    公开(公告)号:CN113725245B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202111040432.1

    申请日:2021-09-06

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 本发明提供了一种CIS芯片的像元结构、微透镜阵列、图像传感器及制作方法,该像元结构包括:半导体基底,该半导体基底具有光敏元件,平坦层,位于该半导体基底上方。第一微透镜,为凸透镜,第一微透镜的上表面为凸面,第一微透镜的下表面位于平坦层的正上方。彩色滤光层,位于第一微透镜的上表面,彩色滤光层的上表面和下表面均为凸面。第二微透镜,为凸透镜,该第二微透镜位于彩色滤光层的上表面,第二微透镜的上表面和下表面均为凸面。本发明通过将第一微透镜的上表面设置为凸面,彩色滤光层和第二微透镜的上表面和下表面均设置为凸面,从而将像元结构接收到的光线全折射到光敏元件中,提高了成像的质量。

    测定图像传感器量子效率的方法、装置、设备和介质

    公开(公告)号:CN114295565B

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202111629837.9

    申请日:2021-12-28

    IPC分类号: G01N21/31

    摘要: 本发明提供了一种测定图像传感器量子效率的方法,包括:图像传感器通过光纤面板接收来自光源的连续光谱;图像传感器分别在暗场和曝光条件下每间隔单位积分时间获取一幅图像,得到暗场图像组和曝光图像组;将曝光图像组的像素值与暗场图像组的像素值相减得到单位积分时间的数据差值;获取连续光谱经若干特定波长滤光后的图像,通过图像传感器定位特定波长在连续光谱中的特定位置;通过特定位置和连续光谱及其与光功率的对应关系,拟合得到光功率曲线并获取第一波长的光功率值;根据光功率值、第一波长、像元尺寸、单位积分时间、数据差值和转换增益,计算图像传感器对应第一波长的量子效率,该方法用于精确测定图像传感器的量子效率。

    一种膜层厚度表征方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115508387A

    公开(公告)日:2022-12-23

    申请号:CN202211291417.9

    申请日:2022-10-19

    IPC分类号: G01N23/04 G01N23/20091

    摘要: 本发明公开了一种膜层厚度表征方法,包括:提供一具有多个膜层叠层的测试样品;获取各所述膜层的电子能量损失谱,依据所述电子能量损失谱中各所述膜层的强度信号,得到能量损失区间;在透射电子显微镜的能量过滤模式下,选取所述能量损失区间中的能量损失值作为参数进行输入,得到各所述膜层的表征图像,确定目标膜层的厚度。本发明能够提高能量分辨率,避免由于元素分布界限不清淅导致的测量误差,从而实现通过输出的各膜层表征图像,准确测量各膜层厚度的目的,同时具有数据处理及操作较简单的优点,易于推广。

    透射测试装置、信噪比测试系统及测试方法

    公开(公告)号:CN114066832A

    公开(公告)日:2022-02-18

    申请号:CN202111313692.1

    申请日:2021-11-08

    IPC分类号: G06T7/00 G06T5/00

    摘要: 本发明提供了一种透射测试装置,包括至少一个透射测试单元,所述透射测试单元包括第一透射测试子单元、第二透射测试子单元和第三透射测试子单元,所述第一透射测试子单元和所述第二透射测试子单元相接触,且均设置于所述第三透射测试子单元上,所述第一透射测试子单元的光学密度与所述第三透射测试子单元的光学密度的差等于所述第三透射测试子单元的光学密度与所述第二透射测试子单元的光学密度的差,且所述第三透射测试子单元的光学密度与所述第二透射测试子单元的光学密度的差小于或等于0.3,便于通过对比度获得信噪比,减少了HDR融合与色调映射不单调对信噪比的影响。本发明还有提供了一种信噪比测试系统及测试方法。

    一种图像亮度校正方法和硬件系统

    公开(公告)号:CN114244969B

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202111574900.3

    申请日:2021-12-21

    IPC分类号: H04N5/202 H04N9/69

    摘要: 本发明提供了一种硬件系统,所述硬件系统包括FPGA芯片和CPU芯片;所述CPU芯片,用于计算当伽马值为第一值时的伽马曲线段,以及将所述伽马曲线划分为分别对应不同的像素区间的多个伽马子曲线段;针对任意一个伽马子曲线段,按照与所述像素区间对应的步长从所述伽马子曲线段上采样,得到多个采样点,以及根据所述多个采样点的原始像素值和校正像素值生成伽马表;所述CPU芯片,还用于将所述伽马表传送至所述FPGA芯片;所述FPGA芯片,用于获取待处理图像的每个像素点的原始像素值;针对任意一个像素点的原始像素值,执行如下处理:根据所述伽马表确定与所述原始像素值对应的校正像素值。该方法用以采用硬件的方式实现图像亮度优化,提高图像处理效率。

    光阻类芯片失效分析样本的制作方法及分析方法

    公开(公告)号:CN115575206A

    公开(公告)日:2023-01-06

    申请号:CN202211249518.X

    申请日:2022-10-11

    IPC分类号: G01N1/28 G01N23/04

    摘要: 本发明提供了一种光阻类芯片失效分析样本的制作方法及分析方法,所述制作方法包括:提供光阻试片,其中,所述光阻试片为晶圆通过裂片后形成;在所述光阻试片表面沉积一层金属氧化物隔离层,并使得所述金属氧化物隔离层完全覆盖所述光阻试片;在所述金属氧化物隔离层表面覆盖一层胶水保护层;确定所述光阻试片的目标分析位置,根据所述目标分析位置在所述胶水保护层上形成指示标记;在所述胶水保护层表面形成一层减薄保护层之后,对所述光阻试片进行减薄处理,以得到目标分析试样。本发明制得的目标分析样本形状保持良好,不易变形,有效提高了分析结果的准确性。

    一种图像亮度校正方法和硬件系统

    公开(公告)号:CN114244969A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111574900.3

    申请日:2021-12-21

    IPC分类号: H04N5/202 H04N9/69

    摘要: 本发明提供了一种硬件系统,所述硬件系统包括FPGA芯片和CPU芯片;所述CPU芯片,用于计算当伽马值为第一值时的伽马曲线段,以及将所述伽马曲线划分为分别对应不同的像素区间的多个伽马子曲线段;针对任意一个伽马子曲线段,按照与所述像素区间对应的步长从所述伽马子曲线段上采样,得到多个采样点,以及根据所述多个采样点的原始像素值和校正像素值生成伽马表;所述CPU芯片,还用于将所述伽马表传送至所述FPGA芯片;所述FPGA芯片,用于获取待处理图像的每个像素点的原始像素值;针对任意一个像素点的原始像素值,执行如下处理:根据所述伽马表确定与所述原始像素值对应的校正像素值。该方法用以采用硬件的方式实现图像亮度优化,提高图像处理效率。