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公开(公告)号：CN100477058C
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200480001457.9
申请日：2004-05-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供用于生产等离子体显示器件前板的未焙烤的层板，以及生产该前板的方法。该层板包括可燃中间层，并且可包括未焙烧的介电层和光敏的未焙烧的阻隔材料层。该可燃中间层位于介电层和阻隔材料层之间，且能够在焙烤处理中燃烧，从而可以去除残留在经过去除显影的区域中的阻隔材料层残留物。
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公开(公告)号：CN1183423C
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN98123405.4
申请日：1998-10-14
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/035
CPC classification number: G03F7/0325 , B24C1/04 , G03F7/34 , H05K3/0076 , H05K3/04 , Y10S430/112
Abstract: 公开了一种砂磨用的光敏组合物和具有包括该组合物的光敏层的光敏膜。所述光敏组合物包括至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，光致聚合引发剂，和选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的至少一种纤维素衍生物。该组合物显示出优良的与基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。
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公开(公告)号：CN1717763A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200480001457.9
申请日：2004-05-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 本发明提供用于生产等离子体显示器件前板的未焙烤的层板，以及生产该前板的方法。该层板包括可燃中间层，并且可包括未焙烧的介电层和光敏的未焙烧的阻隔材料层。该可燃中间层位于介电层和阻隔材料层之间，且能够在焙烤处理中燃烧，从而可以去除残留在经过去除显影的区域中的阻隔材料层残留物。
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公开(公告)号：CN100380232C
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN99118105.0
申请日：1999-08-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: C08G18/3206 , B24C1/04 , C08G18/6492 , C08G18/672 , G03F7/027 , Y10S430/106 , Y10S430/112 , Y10S430/114
Abstract: 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如下结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
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公开(公告)号：CN1183422C
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN01137879.4
申请日：2001-11-07
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 一种砂磨用光敏组合物，它含有下列组分：(A)可光致聚合的具有(甲基)丙烯酰基团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物；(B)一种丙烯酸类共聚物；和(C)光致聚合引发剂；其中组分(B)包括含有苯环和环己基基团中的一种的可共聚单体作为单体单元。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1690853A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510071704.9
申请日：2005-04-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 一种可得到具有平衡的防喷砂性能和显影性能的干膜的光敏性树脂组合物。含有酸值小于10mgKOH/g、每分子含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的含有羧基的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，碱性可溶聚合物化合物，光致聚合引发剂和在其结构中包括由式(I)表示的结构单元的可光致聚合化合物(D)的光敏性树脂组合物可得到优良平衡的性能。
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公开(公告)号：CN1220415A
公开(公告)日：1999-06-23
申请号：CN98123405.4
申请日：1998-10-14
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0325 , B24C1/04 , G03F7/34 , H05K3/0076 , H05K3/04 , Y10S430/112
Abstract: 公开了一种砂磨用的光敏组合物和具有包括该组合物的光敏层的光敏膜。所述光敏组合物包括至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,光致聚合引发剂,和选自羟丙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、邻苯二甲酸羟丙基甲基纤维素以及邻苯二甲酸乙酸羟丙基甲基纤维素的至少一种纤维素衍生物。该组合物显示出优良的与基片粘性、高感光度和高耐砂磨性。
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公开(公告)号：CN1690853B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200510071704.9
申请日：2005-04-26
Applicant: 东京応化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 一种可得到具有平衡的防喷砂性能和显影性能的干膜的光敏性树脂组合物。含有酸值小于10mgKOH/g、每分子含有两个或多个(甲基)丙烯酰基的含有羧基的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，碱性可溶聚合物化合物，光致聚合引发剂和在其结构中包括由式(I)表示的结构单元的可光致聚合化合物(D)的光敏性树脂组合物可得到优良平衡的性能。
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公开(公告)号：CN1353140A
公开(公告)日：2002-06-12
申请号：CN01137879.4
申请日：2001-11-07
Applicant: 东京応化工业株式会社
Abstract: 一种砂磨用光敏组合物,它含有下列组分:(A)可光致聚合的具有(甲基)丙烯酰基团的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物;(B)一种丙烯酸类共聚物;和(C)光致聚合引发剂;其中组分(B)包括含有苯环和环己基基团中的一种的可共聚单体作为单体单元。
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公开(公告)号：CN1245300A
公开(公告)日：2000-02-23
申请号：CN99118105.0
申请日：1999-08-17
Applicant: 东京応化工业株式会社
CPC classification number: C08G18/3206 , B24C1/04 , C08G18/6492 , C08G18/672 , G03F7/027 , Y10S430/106 , Y10S430/112 , Y10S430/114
Abstract: 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如右结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,(B)碱溶性化合物,和(C)光致聚合引发剂。
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