公开(公告)号：CN1736923B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200510088568.4

申请日：2005-08-04

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 石桥知淳 ,  楫间淳生 ,  吉泽健司

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明提供一种即使连续地进行多次的喷射(涂敷)、也能够使每次喷射的涂敷液的排出量为一定的涂敷装置及涂敷方法。在第一次的喷射结束后，关闭开闭阀(14、21)，将开闭阀(11)打开，并且使注射泵(9)返回到原来的位置，经由脱气模块(8)再次向涂敷液储存空间(S)内送入涂敷液。此时的涂敷液储存空间(S)内因用于防止来自外部的气体的卷入的剩余压力而成为正压。之后，关闭开闭阀(11)，同时将分支配管(15)的开闭阀(17)打开。这样一来，与上述同样地，涂敷液储存空间(S)内的剩余压力被除去而降低到接近于大气压的压力。这样，通过在每次喷射前除去涂敷液储存空间(S)内的剩余压力，能够将每次喷射的排出前状态始终保持在一定的状态。

公开(公告)号：CN1736923A

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN200510088568.4

申请日：2005-08-04

Applicant: 东京応化工业株式会社

Inventor： 石桥知淳 ,  楫间淳生 ,  吉泽健司

IPC: C03C17/00

Abstract: 本发明提供一种即使连续地进行多次的喷射(涂敷)、也能够使每次喷射的涂敷液的排出量为一定的涂敷装置及涂敷方法。在第一次的喷射结束后，关闭开闭阀(14、21)，将开闭阀(11)打开，并且使注射泵(9)返回到原来的位置，经由脱气模块(8)再次向涂敷液储存空间(S)内送入涂敷液。此时的涂敷液储存空间(S)内因用于防止来自外部的气体的卷入的剩余压力而成为正压。之后，关闭开闭阀(11)，同时将分支配管(15)的开闭阀(17)打开。这样一来，与上述同样地，涂敷液储存空间(S)内的剩余压力被除去而降低到接近于大气压的压力。这样，通过在每次喷射前除去涂敷液储存空间(S)内的剩余压力，能够将每次喷射的排出前状态始终保持在一定的状态。