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公开(公告)号：CN115116893A
公开(公告)日：2022-09-27
申请号：CN202210229166.5
申请日：2022-03-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/311
Abstract: 本发明涉及气体处理装置。提供一种能够在使用含氟气体和碱性气体的气体处理时抑制由于微粒而在基板产生缺陷的气体处理装置。对基板实施气体处理的气体处理装置具有：腔室，其收容基板；气体供给机构，其将含氟气体和碱性气体独立地供给；以及气体导入构件，其使自气体供给机构供给来的含氟气体与碱性气体合流，并将含氟气体与碱性气体混合而成的混合气体向腔室导入，气体导入构件的包含含氟气体与碱性气体的合流部位的部分由铝类材料构成，至少在包含合流部位的部分形成有树脂涂层。
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