基于连续渗硅法制备高硅钢薄带的SiCl4稳定蒸发供气装置

    公开(公告)号:CN117966084A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410150537.X

    申请日:2024-02-02

    申请人: 东北大学

    IPC分类号: C23C10/08 B01D1/00

    摘要: 基于连续渗硅法制备高硅钢薄带的SiCl4稳定蒸发供气装置,属于高硅钢制备技术领域,包括SiCl4蒸发罐、恒温水浴箱、SiCl4补液罐、惰性气体输入管、SiCl4补液管及压力平衡管;SiCl4蒸发罐浸没于恒温水浴箱内;SiCl4补液罐位于SiCl4蒸发罐上方,SiCl4补液罐的罐底出液口通过SiCl4补液管与SiCl4蒸发罐1内部相导通,SiCl4补液罐的罐顶气压平衡口通过压力平衡管与SiCl4蒸发罐内部相导通,压力平衡管的下端管口与SiCl4蒸发罐内部的SiCl4液体的上限高度液面相平齐;SiCl4蒸发罐内的压力平衡管外侧同轴套装有液面波动隔离套管;压力平衡管下端管口与SiCl4液体液面的升降动态配合,实现SiCl4蒸发罐内SiCl4液体的动态补液,通过动态补液实现SiCl4液体液面的持续稳定,具有结构简单、易操作、安全性高、造价低廉的特点。