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公开(公告)号:CN106834763B
公开(公告)日:2018-06-19
申请号:CN201710003629.5
申请日:2017-01-05
申请人: 东南大学
摘要: 本发明公开了一种超黑纳米柱状钴及其制备方法,属于纳米材料制备技术领域,其中包括:1)合成Co含量在10‑20at%,CoMn预合金熔液,并在1300摄氏度以上熔液进行快淬获得单相合金;2)将4‑30摄氏度条件下,将CoMn预合金置于体积浓度为5%‑15%的盐酸溶液中静置50‑180分钟进行脱合金处理;3)将脱合金完的产物取出,分别依次在体积浓度为0.1%,0.01%的盐酸溶液中进行漂洗,时间不超过10秒,再在超纯水中漂洗,时间不超过30s;将漂洗后的产物取出,在惰性气体保护条件下进行干燥即可获得超黑纳米柱状钴。
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公开(公告)号:CN110165232B
公开(公告)日:2022-06-28
申请号:CN201910401743.2
申请日:2019-05-15
申请人: 东南大学
摘要: 本发明公开了一种具有高催化活性的Pd基钝化膜及其制备方法,该钝化膜按原子百分比包含以下组分:Pd 80~90%、Ni 10~20%;该钝化膜还包括Mo或Nb中的一种,按原子百分比包含以下组分:Pd 80~90%、Ni 8~18%、其余为Mo或Nb,且不大于2%。其制备步骤如下:1)将PdNi均匀固溶体、PdNiMo均匀固溶体或者PdNiNb均匀固溶体在一定压强范围内进行抛光处理,使表面光洁并注入残余应力,得到抛光后的样品;2)将抛光后的样品在腐蚀液Ⅰ中进行恒压电化学腐蚀获得钝化膜;3)将钝化膜置于腐蚀液Ⅱ中通过循环伏安法扫描,之后捞出洗净即得。该发明解决现有燃料电池催化稳定性不佳等问题。
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公开(公告)号:CN110165232A
公开(公告)日:2019-08-23
申请号:CN201910401743.2
申请日:2019-05-15
申请人: 东南大学
摘要: 本发明公开了一种具有高催化活性的Pd基钝化膜及其制备方法,该钝化膜按原子百分比包含以下组分:Pd 80~90%、Ni 10~20%;该钝化膜还包括Mo或Nb中的一种,按原子百分比包含以下组分:Pd 80~90%、Ni 8~18%、其余为Mo或Nb,且不大于2%。其制备步骤如下:1)将PdNi均匀固溶体、PdNiMo均匀固溶体或者PdNiNb均匀固溶体在一定压强范围内进行抛光处理,使表面光洁并注入残余应力,得到抛光后的样品;2)将抛光后的样品在腐蚀液Ⅰ中进行恒压电化学腐蚀获得钝化膜;3)将钝化膜置于腐蚀液Ⅱ中通过循环伏安法扫描,之后捞出洗净即得。该发明解决现有燃料电池催化稳定性不佳等问题。
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公开(公告)号:CN108411265A
公开(公告)日:2018-08-17
申请号:CN201810261975.8
申请日:2018-03-28
申请人: 东南大学
CPC分类号: C23C14/35 , C23C14/0036 , C23C14/0635 , C23C14/0641 , C23C14/08 , C23C14/165
摘要: 本发明公开了一种低应力致密涂层制备方法,步骤一.将工件清洗干净,放入真空室抽真空至6X10-4Pa以上,通入惰性气体氩气,偏压为-800V至-1000V,刻蚀所述工件表面10分钟-60分钟;步骤二.通入惰性气体氩气,溅射中间层Ti或Cr,厚度100nm-500nm;步骤三.通入氩氪、氩氙、氪氙或氩氪氙惰性气体的混合气体,溅射所需沉积涂层。在溅射沉积过程,工作气体为氩氪、氩氙或氩氪氙的混合气体,同时控制合理沉积偏压,从而控制涂层应力水平。相对传统的涂层,在获得致密结构条件下,压应力更低,适用于涂层结合性能要求高,涂层厚度大的应用领域。
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