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发明公开
一种光刻胶模型的建立方法及电子设备审中-公开转让

公开(公告)号：CN112364508A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：CN202011255892.1

申请日：2020-11-11

申请人： 东方晶源微电子科技(北京)有限公司深圳分公司

发明人： 高世嘉 , 邵相军

IPC分类号： G06F30/20 , G06T7/13 , G06T17/00

摘要： 本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其涉及一种光刻胶模型的建立方法及电子设备，S1、提供掩模设计版图及电镜扫描图像，掩模设计版图包括至少一掩模图像，电镜扫描图像包括至少一扫描图案，将至少一扫描图案与至少一掩模图像对准以获得至少一对准扫描图案；S2、识别所述至少一对准扫描图案的外边界或者内边界；S3、至少提取至少一对准扫描图案的外边界或者内边界的位置信息以形成数据集；及S4、基于数据集建立光刻胶模型。提取外边界或者内边界的位置信息以形成数据集，其数据是较容易获得以及数量是相对较多的，使得形成的数据集更好的用于模型的建立，同时，外边界或者内边界的位置信息是单点数据，是绝对位置信息，能更加精确的建立光刻胶模型。