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公开(公告)号：CN1104232A
公开(公告)日：1995-06-28
申请号：CN94113745.7
申请日：1994-11-01
IPC: C09K3/10
CPC classification number: F16J15/20 , Y10S277/938 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
Abstract: 一种复合密封材料，它具有一里面部分和一碳制外面部分。该碳制外面部分的松密度被控制在0.3—2.0克/厘米3，最好为0.5—1.5克/厘米3，或者在碳制外面部分中混入纤维成分，或在该碳制外面部分上涂敷一油层，或者涂敷一有机层或一无机层，从而提高由这种复合密封材料构成的密封件的密封性能。
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公开(公告)号：CN1058744C
公开(公告)日：2000-11-22
申请号：CN94113745.7
申请日：1994-11-01
CPC classification number: F16J15/20 , Y10S277/938 , Y10T428/2991 , Y10T428/2993
Abstract: 一种复合密封材料，它具有一里面部分和一碳制外面部分。该碳制外面部分的松密度被控制在0.3-2.0克/厘米3，最好为0.5-1.5克/厘米3，或者在碳制外面部分中混入纤维成分，或在该碳制外面部分上涂敷一油层，或者涂敷一有机层或一无机层，从而提高由这种复合密封材料构成的密封件的密封性能。
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公开(公告)号：CN112612149B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202011031274.9
申请日：2020-09-27
Applicant: 日本碍子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种光调制器用接合体、光调制器及光调制器用接合体的制造方法。在将由铌酸锂等形成的光波导用材料与支撑基板接合而成的光调制器用接合体及光调制器中，抑制光波导用材料因退火处理而开裂，并且，改善光调制器对频率的光响应特性。光调制器用接合体(6)具备支撑基板(4)；光波导用材料(7)，其由选自由铌酸锂、钽酸锂及铌酸锂－钽酸锂构成的组中的材质形成，并设置于支撑基板(4)上；以及光波导(8)，其存在于光波导材料(7)。支撑基板(4)由选自由氧化镁及镁－硅复合氧化物构成的组中的材质形成。
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公开(公告)号：CN101528330A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038810.4
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D69/12 , B01D71/024 , B01D2323/28 , Y10T428/249956 , Y10T428/249957
Abstract: 本发明公开了一种以较少成膜次数形成的且具有较少的缺陷、小且均匀的厚度和高分辨率的陶瓷多孔膜，以及陶瓷过滤器。作为陶瓷多孔膜的二氧化硅膜(1)被形成在作为超滤膜(UF膜)的氧化钛UF膜(14)上，所述氧化钛UF膜被形成在是微滤膜(也称为MF膜)的多孔基体构件(11)上，并且具有比所述多孔基体构件(11)的平均孔径更小的平均孔径，所述二氧化硅膜具有比二氧化钛超滤膜(14)的平均孔径更小的平均孔径，并且部分二氧化硅膜渗入所述二氧化钛UF膜。
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公开(公告)号：CN101528328B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200780038784.5
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D71/02 , B01D67/0048 , B01D67/0095 , B01D69/12 , B01D71/024 , B01D2325/02
Abstract: 本发明公开一种陶瓷多孔膜和一种陶瓷过滤器，所述陶瓷多孔膜以较少膜形成次数形成且具有较少的缺陷、小且一致的厚度和高的流量。硅质膜(1)形成在二氧化钛UF膜(14)上，二氧化钛UF膜(14)作为超滤膜(UF膜)形成在多孔基件(11)上，多孔基件(11)是微滤膜(也称为MF膜)，二氧化钛UF膜(14)的平均孔径小于多孔基件(11)的平均孔径，且硅质膜(1)的平均孔径小于二氧化钛UF膜(14)的平均孔径，硅质膜(1)基本上没有渗透到二氧化钛UF膜中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101528327A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038702.7
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D65/108 , B01D63/066 , B01D67/0048 , B01D71/024 , B01D2325/02
Abstract: 本发明公开了一种薄且均匀的陶瓷过滤器的制备方法，具有较少的成膜次数和较少缺陷。将陶瓷溶胶与平均孔径0.05－10nm的陶瓷分离膜表面接触，再将带有陶瓷溶胶的陶瓷分离膜进行干燥，然后进行烧结，以修复陶瓷分离膜中的缺陷部分，其中所述陶瓷溶胶自身成膜后的平均孔径为10nm或更小。
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公开(公告)号：CN101528329B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200780038792.X
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D2323/42
Abstract: 本发明提供一种薄的、均匀的且缺陷少的陶瓷多孔膜的制造方法，其以较少的成膜次数来成膜，以及含有该多孔膜的陶瓷过滤器的制造方法。在多孔基体构件(11)上形成平均孔径小于该多孔基体构件(11)的UF膜(14)，在UF膜(14)上沉积陶瓷溶胶(40)，通过吹气体来干燥陶瓷溶胶(40)，然后烧成，形成陶瓷多孔膜(1)，其平均孔径小于UF膜(14)的平均孔径。
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公开(公告)号：CN101528327B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200780038702.7
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D65/108 , B01D63/066 , B01D67/0048 , B01D71/024 , B01D2325/02
Abstract: 本发明公开了一种薄且均匀的陶瓷过滤器的制备方法，具有较少的成膜次数和较少缺陷。将陶瓷溶胶与平均孔径0.05-10nm的陶瓷分离膜表面接触，再将带有陶瓷溶胶的陶瓷分离膜进行干燥，然后进行烧结，以修复陶瓷分离膜中的缺陷部分，其中所述陶瓷溶胶自身成膜后的平均孔径为10nm或更小。
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公开(公告)号：CN101528330B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200780038810.4
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D69/12 , B01D71/024 , B01D2323/28 , Y10T428/249956 , Y10T428/249957
Abstract: 本发明公开了一种以较少成膜次数形成的且具有较少的缺陷、小且均匀的厚度和高分辨率的陶瓷多孔膜，以及陶瓷过滤器。作为陶瓷多孔膜的二氧化硅膜(1)被形成在作为超滤膜(UF膜)的氧化钛UF膜(14)上，所述氧化钛UF膜被形成在是微滤膜(也称为MF膜)的多孔基体构件(11)上，并且具有比所述多孔基体构件(11)的平均孔径更小的平均孔径，所述二氧化硅膜具有比二氧化钛超滤膜(14)的平均孔径更小的平均孔径，并且部分二氧化硅膜渗入所述二氧化钛UF膜。
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公开(公告)号：CN101528329A
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200780038792.X
申请日：2007-10-18
Applicant: 日本碍子株式会社
CPC classification number: B01D67/0048 , B01D63/066 , B01D2323/42
Abstract: 本发明提供一种薄的、均匀的且缺陷少的陶瓷多孔膜的制造方法，其以较少的成膜次数来成膜，以及含有该多孔膜的陶瓷过滤器的制造方法。在多孔基体构件(11)上形成平均孔径小于该多孔基体构件(11)的UF膜(14)，在UF膜(14)上沉积陶瓷溶胶(40)，通过吹气体来干燥陶瓷溶胶(40)，然后烧成，形成陶瓷多孔膜(1)，其平均孔径小于UF膜(14)的平均孔径。
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