公开(公告)号：CN109724913A

公开(公告)日：2019-05-07

申请号：CN201711023060.5

申请日：2017-10-27

申请人： 东莞东阳光科研发有限公司

发明人： 王洪飞 ,  石阁 ,  董煌成 ,  刘军 ,  谢金昌

IPC分类号： G01N17/02

摘要： 本发明公开了对光箔进行检测以预判低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的方法，所述方法包括：采用腐蚀液对光箔依次进行一级发孔腐蚀和二级扩孔腐蚀，观察腐蚀后的光箔的外观色差变化，该变化与低压电子箔腐蚀后外观的均匀性一致，从而实现了对低压电子箔腐蚀后外观的均匀性的预判；其中，所述腐蚀液包括盐酸、水、硫酸和铝离子。通过本发明的方法在光箔阶段就可以预先检测出是否会产生腐蚀外观色差。而且，本发明还找到了腐蚀外观不均匀的主要原因是光箔表面氧化膜厚度局部分布不均，合理控制氧化膜厚度均匀性可以保证光箔腐蚀外观质量。