公开(公告)号：CN109384026A

公开(公告)日：2019-02-26

申请号：CN201811346375.8

申请日：2018-11-13

Applicant: 东莞市多普技术研发有限公司

Inventor： 李诚 ,  邱田生 ,  陈振才

IPC: B65G47/248

CPC classification number: B65G47/248

Abstract: 本发明公开一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，两个浮动机构的同一端均设有能够带动上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，移框翻转机构带动上框转动至曝光室位置时、移框翻转机构与浮动机构平行。本发明采用翻转式结构，带动上框能够实现不同角度方位的清洁，该发明设计新颖、结构简单，可有效地预防底片清洁存在的死角，同时还可用放大镜检查清洁后质量以及异常处理，既方便又实用，还不占用正常过道空间，提高了PCB产品合格率及降低返工成本。

公开(公告)号：CN209281150U

公开(公告)日：2019-08-20

申请号：CN201821864067.X

申请日：2018-11-13

Applicant: 东莞市多普技术研发有限公司

Inventor： 李诚 ,  邱田生 ,  陈振才

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型公开一种省空间可翻转式曝光框架，包括两个对称的浮动机构和上框，两个浮动机构的同一端均设有能够带动上框一同翻转一定角度的移框翻转机构，移框翻转机构带动上框转动至曝光室位置时、移框翻转机构与浮动机构平行。本实用新型采用翻转式结构，带动上框能够实现不同角度方位的清洁，该实用新型设计新颖、结构简单，可有效地预防底片清洁存在的死角，同时还可用放大镜检查清洁后质量以及异常处理，既方便又实用，还不占用正常过道空间，提高了PCB产品合格率及降低返工成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利