公开(公告)号：CN114981922A

公开(公告)日：2022-08-30

申请号：CN202080093066.3

申请日：2020-01-17

Applicant: 东邦化成株式会社

Inventor： 出口泰纪

IPC: H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种抑制在每个基板的抗蚀剂去除中产生不均的药液处理装置。所述药液处理装置具备：处理槽(10a)，通过将基板(4)浸渍于药液(6)来对所述基板进行抗蚀剂去除处理；多个保持部(22)，以纵置的方式保持所述基板(4)；上下驱动部(20)，单独地上下驱动所述保持部(22)；以及装夹部(55)，卡脱自如地装夹所述基板(4)，所述上下驱动部(20)使所述保持部(22)在将所述基板(4)浸渍于所述药液(6)的浸渍位置与将所述基板(4)从所述药液(6)提起的非浸渍位置之间单独地上下移动，由此由所述保持部(22)保持的所述基板(4)被以单片式进行抗蚀剂去除处理。

公开(公告)号：CN115769347A

公开(公告)日：2023-03-07

申请号：CN202180047508.5

申请日：2021-07-06

Applicant: 东邦化成株式会社

Inventor： 出口泰纪

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的基板处理模块(7)具备：第一槽(34)和第二槽(32)，在第一方向上排列，并能够配置基板(4)；第一输送部(11)，使基板(4)在第一方向上移动；第二输送部(48)，使基板(4)在与第一方向交叉的第二方向上移动；以及上下输送部(13)，与第一输送部(11)连结，使基板(4)上下移动，第一输送部(11)的第一致动器(12)和第二输送部(48)的第二致动器(41)分别配置在与能接入第一槽(34)和第二槽(32)的处理空间(A)隔离的驱动空间(B1、B2)中。

公开(公告)号：CN115769348A

公开(公告)日：2023-03-07

申请号：CN202180047818.7

申请日：2021-07-06

Applicant: 东邦化成株式会社

Inventor： 出口泰纪

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明的基板处理模块(7)具备：第一槽(34)和第二槽(32)，在第一方向上排列，并能够配置基板(4)；第一输送部(11)，使基板(4)在第一方向上移动；以及第二输送部(48)，使基板(4)在与第一方向交叉的第二方向上移动。