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公开(公告)号:CN117907491A
公开(公告)日:2024-04-19
申请号:CN202410275409.8
申请日:2024-03-12
Applicant: 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
Abstract: 本发明公开了基于双衍生化技术的脱碱基位点LC‑MS/MS分析方法,它包括如下步骤:(1)配制标准曲线工作溶液;(2)配制内标工作溶液;(3)配制标准曲线样品;(4)配制含内标的标准曲线样品;(5)待测样品处理;(6)待测样品溶液、含内标的标准曲线样品溶液进行LC‑MS/MS分析;(7)根据内标‑标准曲线法对待测样品中AP‑NBHA、AP‑PMOA、dG的浓度进行定量分析;(8)脱碱基位点的含量计算。本发明解决了生物样品中AP位点检测中可自发产生,容易出现假阳性,仅靠单衍生化的液质方法并不能实现生物样本中AP位点的准确定量这一技术难题。
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公开(公告)号:CN117214331B
公开(公告)日:2024-12-31
申请号:CN202311189088.1
申请日:2023-09-15
Applicant: 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
Abstract: 本发明建立了一种可同时对microRNA多种表观遗传修饰进行检测的方法,在microRNA两步探针杂交纯化的基础上,酶解,再进行UPLC‑MS/MS核苷分析检测,从而实现同时对microRNA多种表观遗传修饰的定量检测,该方法具有抗基质干扰能力强、检测灵敏度高、假阳性率低、定量准确,可对microRNA表观遗传修饰同时进行定性和定量分析等特点。
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公开(公告)号:CN117907491B
公开(公告)日:2024-06-04
申请号:CN202410275409.8
申请日:2024-03-12
Applicant: 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
Abstract: 本发明公开了基于双衍生化技术的脱碱基位点LC‑MS/MS分析方法,它包括如下步骤:(1)配制标准曲线工作溶液;(2)配制内标工作溶液;(3)配制标准曲线样品;(4)配制含内标的标准曲线样品;(5)待测样品处理;(6)待测样品溶液、含内标的标准曲线样品溶液进行LC‑MS/MS分析;(7)根据内标‑标准曲线法对待测样品中AP‑NBHA、AP‑PMOA、dG的浓度进行定量分析;(8)脱碱基位点的含量计算。本发明解决了生物样品中AP位点检测中可自发产生,容易出现假阳性,仅靠单衍生化的液质方法并不能实现生物样本中AP位点的准确定量这一技术难题。
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公开(公告)号:CN117214331A
公开(公告)日:2023-12-12
申请号:CN202311189088.1
申请日:2023-09-15
Applicant: 中国人民解放军军事科学院军事医学研究院
Abstract: 本发明建立了一种可同时对microRNA多种表观遗传修饰进行检测的方法,在microRNA两步探针杂交纯化的基础上,酶解,再进行UPLC‑MS/MS核苷分析检测,从而实现同时对microRNA多种表观遗传修饰的定量检测,该方法具有抗基质干扰能力强、检测灵敏度高、假阳性率低、定量准确,可对microRNA表观遗传修饰同时进行定性和定量分析等特点。
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