一种用于制备大面积放射源的装置

    公开(公告)号:CN105607109A

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201610114709.3

    申请日:2016-03-01

    IPC分类号: G01T1/167

    CPC分类号: G01T1/167

    摘要: 本发明属于放射源制备技术领域,公开了一种用于制备大面积放射源的装装置。该装置主要包括升降平台车、调平台、镀槽、镀片、镀液保护框、电源、镀笔、镀笔支架及二维平移装置,其中升降平台车的底部设置有滚轮,车身上设置有长方形升降板;调平台置于升降板上方,调平台的底部设置有可微调高度的调节脚;镀槽为上方开口的长方体形状,位于调平台上方,尺寸不小于镀片的尺寸;镀片为阴极,位于镀槽内,镀片通过阴极连接线与电源的负极相连,镀片的四周设置镀液保护框;镀笔作为阳极,镀笔材质为石墨,其位于镀笔支架下方;镀笔通过阳极连接线与电源正极相连接;该装置具有均匀性好、电沉积效率高、操作简单且成本较低的活性区域面积大的有益效果。

    一种用于制备大面积放射源的方法

    公开(公告)号:CN105734629B

    公开(公告)日:2018-03-13

    申请号:CN201610115257.0

    申请日:2016-03-01

    IPC分类号: C25D5/06 C25D17/04

    摘要: 本发明属于放射源制备技术领域,公开了制备大面积放射源的方法。该方法是将镀液置入带有保护框的镀片上,镀片为阴极,以镀片的镜面一侧作为电镀面;在升降平台车、调平台、镀笔支架及量块的协同作用下,调整镀片与镀笔间平行度,并且调整镀片与镀笔下端间距离,使其保持6mm;调整镀笔的初始位置,设置二维平移装置控制软件上所需的镀笔移动速度、移动距离及其他相关参数,利用计算机及二维平移装置控制软件对镀笔行程进行远程控制,并确保整个行程中镀笔不接触镀液保护框;根据所镀核素类型,设置电源电压值、电流值,对镀片进行电镀得到大面积放射源。该方法具有均匀性好、电沉积效率高、操作简单、成本较低且活性区域面积可大至1000cm2的优点。

    一种用于制备大面积放射源的方法

    公开(公告)号:CN105734629A

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201610115257.0

    申请日:2016-03-01

    IPC分类号: C25D5/06 C25D17/04

    CPC分类号: C25D5/06 C25D17/04

    摘要: 本发明属于放射源制备技术领域,公开了制备大面积放射源的方法。该方法是将镀液置入带有保护框的镀片上,镀片为阴极,以镀片的镜面一侧作为电镀面;在升降平台车、调平台、镀笔支架及量块的协同作用下,调整镀片与镀笔间平行度,并且调整镀片与镀笔下端间距离,使其保持6mm;调整镀笔的初始位置,设置二维平移装置控制软件上所需的镀笔移动速度、移动距离及其他相关参数,利用计算机及二维平移装置控制软件对镀笔行程进行远程控制,并确保整个行程中镀笔不接触镀液保护框;根据所镀核素类型,设置电源电压值、电流值,对镀片进行电镀得到大面积放射源。该方法具有均匀性好、电沉积效率高、操作简单、成本较低且活性区域面积可大至1000cm2的优点。

    一种用于制备大面积放射源的装置

    公开(公告)号:CN205581308U

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201620155594.8

    申请日:2016-03-01

    IPC分类号: G01T1/167

    摘要: 本实用新型属于放射源制备技术领域,公开了一种用于制备大面积放射源的装置。该装置主要包括升降平台车、调平台、镀槽、镀片、镀液保护框、电源、镀笔、镀笔支架及二维平移装置,其中升降平台车的底部设置有滚轮,车身上设置有长方形升降板;调平台置于升降板上方,调平台的底部设置有可微调高度的调节脚;镀槽为上方开口的长方体形状,位于调平台上方,尺寸不小于镀片的尺寸;镀片为阴极,位于镀槽内,镀片通过阴极连接线与电源的负极相连,镀片的四周设置镀液保护框;镀笔作为阳极,镀笔材质为石墨,其位于镀笔支架下方;镀笔通过阳极连接线与电源正极相连接;该装置具有均匀性好、电沉积效率高、操作简单且成本较低的活性区域面积大的有益效果。