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公开(公告)号:CN117784468A
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202410042185.6
申请日:2024-01-11
申请人: 中国工程物理研究院流体物理研究所
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1333 , G02F1/1362
摘要: 本发明涉及激光加工制造技术领域,具体公开了一种硅基液晶基板及设计方法和液晶空间光调制器,硅基液晶基板包括设置在硅基板上的反射层,反射层为第一复合膜层,第一复合膜层包括平坦膜和高反膜;平坦膜设置在硅基板上,高反膜设置在平坦膜上。硅基液晶基板的设计方法包括反射层的设计;和/或玻璃盖板的设计,和/或液晶层采用的液晶材料的设计;和/或硅基板的设计;和/或液晶封装制程的设计。本发明不仅提高了光能利用率,且提高了损伤阈值。