薄膜介质材料本征禁带宽度的确定方法、装置及设备

    公开(公告)号:CN116879183A

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202311010723.5

    申请日:2023-08-11

    IPC分类号: G01N21/21 G01N21/31 G01N21/01

    摘要: 本申请提供了一种薄膜介质材料本征禁带宽度的确定方法、装置、及设备,其中,该方法包括:对待测量单晶或多晶态薄膜介质材料进行椭偏测量,得到椭偏测量参数;基于预先构建的测量模型,生成椭偏模拟参数;根据椭偏测量参数以及椭偏模拟参数迭代和拟合,生成光谱吸收色散曲线;基于光谱吸收色散曲线进行高斯函数分峰拟合处理,得到分峰拟合高斯函数参数和参考色散曲线;提取与薄膜介质材料特征吸收峰相对应的目标拟合高斯函数参数和目标参考色散曲线并进行归一化以及直线外插,确定薄膜介质材料的本征禁带宽度。通过对目标拟合高斯函数参数和目标参考色散曲线归一化和直线外插,确定待测量单晶或多晶态薄膜介质材料的本征禁带宽度。

    薄膜结构检测方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN115096823A

    公开(公告)日:2022-09-23

    申请号:CN202210696967.2

    申请日:2022-06-20

    IPC分类号: G01N21/21

    摘要: 本申请提供一种薄膜结构检测方法、装置、电子设备及存储介质,涉及薄膜检测领域,该方法包括:在预设振子模型中新增振子,由新增振子后的预设振子模型表征待检测薄膜的光学参数;基于预设算法确定待检测薄膜的椭偏参数与模拟椭偏参数的最小拟合均方根差,并拟合得到反映待检测薄膜对应的色散曲线以及相应的振子参数;将色散曲线与由新增振子前预设振子模型,与预设算法确定的初始色散曲线进行比较,并分析相应振子参数的物理意义,基于分析结果确定待检测薄膜的结构。采用本申请的方法可以通过振子对薄膜中光学介质材料光学参数的影响确定薄膜的结构形态,避免采用价格昂贵的检测仪器,从而降低检测成本。

    一种挡板修正方法、镀膜方法和装置

    公开(公告)号:CN111286699A

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:CN202010222435.6

    申请日:2020-03-25

    IPC分类号: C23C14/24 C23C14/54

    摘要: 本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置,用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正,所述方法包括:获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹,以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚,以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对应的遮挡角;根据所述遮挡角确定所述待修正挡板的外形;根据每一待遮挡点对应的镀膜轨迹和所述待修正挡板的外形,计算得到所述待遮挡点对应的实际遮挡膜厚,所述实际遮挡膜厚为根据模拟所述待修正挡板进行遮挡后得到的;根据所有待遮挡点的原始膜厚以及对应的实际遮挡膜厚,对所述待修正挡板进行修正,得到目标挡板。通过理论计算的方式对挡板进行修正,可以提高挡板修正的精确和效率。

    薄膜结构检测方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN115096823B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202210696967.2

    申请日:2022-06-20

    IPC分类号: G01N21/21

    摘要: 本申请提供一种薄膜结构检测方法、装置、电子设备及存储介质,涉及薄膜检测领域,该方法包括:在预设振子模型中新增振子,由新增振子后的预设振子模型表征待检测薄膜的光学参数;基于预设算法确定待检测薄膜的椭偏参数与模拟椭偏参数的最小拟合均方根差,并拟合得到反映待检测薄膜对应的色散曲线以及相应的振子参数;将色散曲线与由新增振子前预设振子模型,与预设算法确定的初始色散曲线进行比较,并分析相应振子参数的物理意义,基于分析结果确定待检测薄膜的结构。采用本申请的方法可以通过振子对薄膜中光学介质材料光学参数的影响确定薄膜的结构形态,避免采用价格昂贵的检测仪器,从而降低检测成本。

    一种挡板修正方法、镀膜方法和装置

    公开(公告)号:CN111286699B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN202010222435.6

    申请日:2020-03-25

    IPC分类号: C23C14/24 C23C14/54

    摘要: 本申请提供一种挡板修正方法、镀膜方法和装置,用于对平面行星式旋转镀膜工艺中挡板的形状进行修正,所述方法包括:获取待镀膜元件上多个待遮挡点的镀膜轨迹,以及获取每一待遮挡点对应的原始膜厚,以及获取待修正挡板中与多个待遮挡点对应的遮挡角;根据所述遮挡角确定所述待修正挡板的外形;根据每一待遮挡点对应的镀膜轨迹和所述待修正挡板的外形,计算得到所述待遮挡点对应的实际遮挡膜厚,所述实际遮挡膜厚为根据模拟所述待修正挡板进行遮挡后得到的;根据所有待遮挡点的原始膜厚以及对应的实际遮挡膜厚,对所述待修正挡板进行修正,得到目标挡板。通过理论计算的方式对挡板进行修正,可以提高挡板修正的精确和效率。

    薄膜品质检测方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN113267454A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110581657.1

    申请日:2021-05-26

    IPC分类号: G01N21/21 G06F17/11

    摘要: 本申请提供涉及一种薄膜品质检测方法、装置、电子设备及存储介质,涉及薄膜品质控制领域。上述薄膜品质检测方法包括:根据薄膜样品的物理数学模型和所述薄膜样品经椭偏检测获得的椭偏检测曲线,以薄膜材料的本征折射率色散表达式为特征参数,反演生成所述薄膜样品的椭偏模拟曲线;计算所述椭偏检测曲线与所述椭偏模拟曲线的拟合度;在所述拟合度接近或大于预设拟合度阈值时,确定所述薄膜样品的品质达到预设标准。能够解决现有技术中对薄膜品质检测精度低,检测工序复杂以及评判标准缺乏量化指标等问题。