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公开(公告)号:CN111076016B
公开(公告)日:2024-06-04
申请号:CN201911271095.X
申请日:2019-12-12
申请人: 中国成达工程有限公司
摘要: 本发明公开了一种低压降流体介质分配装置,解决现有技术在对流体介质进行分配时,不论流体处于充分发展状态或非充分发展状态,均可实现流体流量“一分三”或“一分二”(包括均分)的低压降分配目的。本发明包括呈管腔结构的分配装置主体,连通在所述分配装置主体上的流入管,至少两根连通在所述分配装置主体上的流出管,以及设于所述分配装置主体内用于将所述分配装置主体的内腔分隔成若干个导流区的分隔机构,所述导流区的数量与所述流出管数量相同并一一对应连通。本发明具有低压降、结构简单、制造方便、易于安装、维护、更换等特点。
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公开(公告)号:CN111076016A
公开(公告)日:2020-04-28
申请号:CN201911271095.X
申请日:2019-12-12
申请人: 中国成达工程有限公司
摘要: 本发明公开了一种低压降流体介质分配装置,解决现有技术在对流体介质进行分配时,不论流体处于充分发展状态或非充分发展状态,均可实现流体流量“一分三”或“一分二”(包括均分)的低压降分配目的。本发明包括呈管腔结构的分配装置主体,连通在所述分配装置主体上的流入管,至少两根连通在所述分配装置主体上的流出管,以及设于所述分配装置主体内用于将所述分配装置主体的内腔分隔成若干个导流区的分隔机构,所述导流区的数量与所述流出管数量相同并一一对应连通。本发明具有低压降、结构简单、制造方便、易于安装、维护、更换等特点。
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公开(公告)号:CN213117955U
公开(公告)日:2021-05-04
申请号:CN201922228626.9
申请日:2019-12-12
申请人: 中国成达工程有限公司
摘要: 本实用新型公开了一种低压降流体介质分配装置,解决现有技术在对流体介质进行分配时,不论流体处于充分发展状态或非充分发展状态,均可实现流体流量“一分三”或“一分二”(包括均分)的低压降分配目的。本实用新型包括呈管腔结构的分配装置主体,连通在所述分配装置主体上的流入管,至少两根连通在所述分配装置主体上的流出管,以及设于所述分配装置主体内用于将所述分配装置主体的内腔分隔成若干个导流区的分隔机构,所述导流区的数量与所述流出管数量相同并一一对应连通。本实用新型具有低压降、结构简单、制造方便、易于安装、维护、更换等特点。
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