公开(公告)号：CN118324333A

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN202410457558.6

申请日：2024-04-16

申请人： 中国电子工程设计院股份有限公司 ,  世源科技工程有限公司 ,  源之洁(上海)环保科技有限公司

发明人： 张海军 ,  杨大卫 ,  杨子明 ,  申颖洁 ,  王鹏 ,  王荣钢 ,  刘澈 ,  关晓东 ,  邢浩然 ,  胡斐

IPC分类号： C02F9/00 ,  C02F11/121 ,  C02F1/58 ,  C02F1/66 ,  C02F1/52 ,  C02F1/00 ,  C02F1/56 ,  C02F101/14 ,  C02F101/20 ,  C02F1/28 ,  C02F101/22

摘要： 本发明涉及一种深度高效除氟处理工艺及系统，属于电子行业废水处理技术领域，解决了现有含氟废水工艺较难实现深度除氟达标排放、产生的污泥量大的问题。一种深度高效除氟处理工艺，采用两级处理工艺；一级处理工艺包括PH调节‑氟离子化学反应‑混凝‑絮凝‑高效澄清‑污泥脱水；二级处理工艺包括PH调节‑氟离子氢键吸附‑混凝‑絮凝‑高效澄清‑污泥脱水；其中一级处理工艺澄清后的上清液进入二级处理工艺。实现了含氟废水中氟深度去除的同时减少系统加药量及排泥量。