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公开(公告)号：CN101804343B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN200910077703.3
申请日：2009-02-12
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种含第VIB族金属组分的吸附剂组合物，该组合物含有耐热无机氧化物基质，至少一种选自第VIB族的金属组分和至少一种选自第IA和/或IIA族金属组分，以所述组合物为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，第VIB族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，选自第IA和/或IIA族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％。与现有技术相比，本发明提供的所述组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的同时再生稳定性高。
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公开(公告)号：CN101829472A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200910119515.2
申请日：2009-03-12
IPC分类号： B01D53/04 , B01D53/86 , B01D53/60 , B01J20/04 , B01J20/32 , B01J23/06 , B01J23/10 , B01J32/00 , B01J29/03
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种脱除烟气中硫、氮的氧化物的方法，包括在吸附分离条件下，将含硫、氮的氧化物的烟气与吸附剂接触，所述吸附剂含有耐热无机氧化物基质和金属组分I和金属组分II，其中，所述金属组分I选自元素周期表的第I？A、第II？A族中的一种或几种，金属组分II选自元素周期表的第VIB、VIIB、VIII、IIB族中的一种或几种，以所述吸附剂为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，金属组分I的含量为0.5重量％-35重量％，金属组分II的含量为0.5重量％-35重量％。与现有技术相比，本发明提供的方法具有更高的脱硫、氮性能和再生稳定性。
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公开(公告)号：CN101829537B
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：CN200910119516.7
申请日：2009-03-12
IPC分类号： B01J20/04 , B01J20/32 , B01J23/48 , B01J23/72 , B01J32/00 , B01J37/02 , B01D53/02 , B01D53/86 , B01D53/60
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2348 , Y02A50/2349
摘要： 一种含第IB族金属组分的吸附剂组合物及其应用，该组合物含有耐热无机氧化物基质，至少一种选自第IB族的金属组分和至少一种选自第IA和/或IIA族金属组分，以所述组合物为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，第IB族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，选自第IA和/或IIA族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，其中，以X射线光电子能谱法表征，所述选自第IB族的金属组分至少以MIBi1+和MIBi2+两种不同的价态存在，其中的i1小于i2。与现有技术相比，本发明提供的所述组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的同时再生稳定性高。
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公开(公告)号：CN101757911B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN200810246520.5
申请日：2008-12-25
IPC分类号： B01J23/34 , B01J23/02 , B01J21/04 , B01J21/06 , B01J21/10 , B01J21/12 , B01J21/14 , B01D53/86 , B01D53/94 , B01D53/60
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种含锰的吸附剂组合物，该组合物含有耐热无机氧化物基质，锰金属组分和至少一种选自第IA和/或IIA族金属组分，以所述组合物为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，锰金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，选自第IA和/或IIA族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％。与现有技术相比，本发明提供的述组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的同时再生稳定性高。
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公开(公告)号：CN101829537A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200910119516.7
申请日：2009-03-12
IPC分类号： B01J20/04 , B01J20/32 , B01J23/48 , B01J23/72 , B01J32/00 , B01J37/02 , B01D53/02 , B01D53/86 , B01D53/60
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2348 , Y02A50/2349
摘要： 一种含第IB族金属组分的吸附剂组合物及其应用，该组合物含有耐热无机氧化物基质，至少一种选自第IB族的金属组分和至少一种选自第I？A和/或II？A族金属组分，以所述组合物为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，第IB族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，选自第I？A和/或II？A族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，其中，以X射线光电子能谱法表征，所述选自第IB族的金属组分至少以MIBi1+和MIBi2+两种不同的价态存在，其中的i1小于i2。与现有技术相比，本发明提供的所述组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的同时再生稳定性高。
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公开(公告)号：CN101804352A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200910077702.9
申请日：2009-02-12
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种含第VIII族金属组分的吸附剂组合物，该组合物含有耐热无机氧化物基质，至少一种选自第VIII族的金属组分和至少一种选自第IA和/或IIA族金属组分，以所述组合物为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，第VIII族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，选自第IA和/或IIA族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％。与现有技术相比，本发明提供的述组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的同时再生稳定性高。
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公开(公告)号：CN101721911A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810225612.5
申请日：2008-10-31
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种可用于脱除烟气中硫、氮的氧化物的组合物，该组合物含有至少一种选自第I B、II B、III B、IV B、V B、VI B、VII B、VIII B族的过渡金属的氧化物，至少一种选自第I A、II A族的金属氧化物，至少一种耐热无机氧化物基质，所述催化剂由包括以下步骤的方法制备：(1)向耐热无机氧化物基质和/或耐热无机氧化物基质的前身物中引入至少一种选自第I B、II B、III B、IV B、V B、VI B、VII B、VIII B族的过渡金属的氧化物，至少一种选自第I A、II A族的金属氧化物；(2)在大于600℃至1100℃条件下焙烧步骤(1)的产物2小时-12小时，得到所述组合物。与现有技术相比，本发明提供的组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的前提下再生稳定性进一步提高。
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公开(公告)号：CN101007639A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200610002373.8
申请日：2006-01-27
IPC分类号： C01B39/24
摘要： 本发明公开了一种制备小晶粒NaY分子筛的方法，包括合成导向剂、形成硅铝凝胶、晶化和回收产物的过程，其特征在于在晶化前，将形成的硅铝凝胶在10～85℃低温老化5～50h，然后加入与硅铝凝胶中总Al2O3量的摩尔比为0.1～1000的添加物，所说的添加物选自下述物质中的一种或多种：无定形SiO2、Al2O3、Al2O3的前身物，ZrO2、AlPO4、TiO2、硅铝胶，粘土。
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公开(公告)号：CN101829536A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200910119514.8
申请日：2009-03-12
IPC分类号： B01J20/04 , B01J20/32 , B01J23/06 , B01J23/10 , B01J32/00 , B01J37/02 , B01D53/50 , B01D53/86
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种含第II？B族金属组分的吸附剂组合物，该组合物含有耐热无机氧化物基质，至少一种选自第II？B族的金属组分和选自第I？A和/或II？A族金属组分，以所述组合物为基准，耐热无机氧化物基质的含量为50重量％-99重量％，以氧化物计，第II？B族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％，选自第I？A和/或II？A族金属组分的含量为0.5重量％-35重量％。与现有技术相比，本发明提供的所述组合物在保持高的脱除烟气中硫、氮氧化物性能的同时再生稳定性高。
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公开(公告)号：CN101722059A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810225611.0
申请日：2008-10-31
CPC分类号： Y02A50/2344 , Y02A50/2349
摘要： 一种脱除烟气中硫和/或氮氧化物的吸附剂组合物再生方法，包括：(1)在200℃-800℃温度下，将所述待再生组合物与还原气体接触0.5小时-5小时；(2)在200℃-800℃温度下，将步骤(1)得到的产物与含氧气体接触0.5小时-3小时；(3)在200℃-800℃温度下，将步骤(2)得到的产物再次与还原气体接触0.5小时-5小时。
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