一种二维材料表面褶皱阵列结构的制备方法

    公开(公告)号:CN118183615B

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410262651.1

    申请日:2024-03-07

    IPC分类号: B81C1/00

    摘要: 本发明提供了一种二维材料表面褶皱阵列结构的制备方法;包括:步骤1,将二维材料置于衬底表面,对样品进行图形化处理,将二维材料制备成条带状或者圆环状;步骤2,将样品进行温度变化处理,形成相互平行的褶皱阵列结构。本发明基于微纳加工技术与二维材料特性的结合,实现了在二维材料表面可控的褶皱阵列制备。本发明方法实现对二维材料性质的结构与性能的调控,拓展其在光电器件、传感器、催化剂、粒子输运等领域的应用。本发明所涉及的二维材料表面褶皱阵列结构的方法,通过对样品进行图形化与温度变化处理,制备得到在条带或圆环中垂直长边方向形成褶皱,而垂直短边方向无法形成褶皱的褶皱阵列。

    一种二维材料表面褶皱阵列结构的制备方法

    公开(公告)号:CN118183615A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410262651.1

    申请日:2024-03-07

    IPC分类号: B81C1/00

    摘要: 本发明提供了一种二维材料表面褶皱阵列结构的制备方法;包括:步骤1,将二维材料置于衬底表面,对样品进行图形化处理,将二维材料制备成条带状或者圆环状;步骤2,将样品进行温度变化处理,形成相互平行的褶皱阵列结构。本发明基于微纳加工技术与二维材料特性的结合,实现了在二维材料表面可控的褶皱阵列制备。本发明方法实现对二维材料性质的结构与性能的调控,拓展其在光电器件、传感器、催化剂、粒子输运等领域的应用。本发明所涉及的二维材料表面褶皱阵列结构的方法,通过对样品进行图形化与温度变化处理,制备得到在条带或圆环中垂直长边方向形成褶皱,而垂直短边方向无法形成褶皱的褶皱阵列。