一种动镜轴向微调装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102565983B

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201110369197.2

    申请日:2011-11-18

    IPC分类号: G02B7/00 G03F7/20

    摘要: 本发明是一种动镜轴向微调装置,所述装置包括:第一组柔性铰链、第二组柔性铰链、第三组柔性铰链、动镜框、外圆柱面、第一安装槽、第二安装槽和第三安装槽,采用第一组柔性铰链、第二组柔性铰链和第三组柔性铰链结构相同且相互独立的柔性铰链作为动镜框的支撑架;在动镜框的外圆柱面上等间距开有第一安装槽、第二安装槽、第三安装槽,并将第一组柔性铰链、第二组柔性铰链、第三组柔性铰链嵌入固定在第一安装槽、第二安装槽、第三安装槽内,利用杠杆原理,通过柔性铰链进行内摩擦传递,对动镜进行Z方向上的倾斜调整,用以校正装配误差。为改善成像质量,本发明需要对物镜中镜片进行Z方向上的倾斜调整,以校正装配误差,提高成像质量。

    一种光刻机机中的输片双稳态水平锁紧装置

    公开(公告)号:CN102279533A

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN201110236926.7

    申请日:2011-08-17

    发明人: 邢薇 王肇志 胡松

    IPC分类号: G03F7/20 F16B1/04

    摘要: 一种光刻机中的输片双稳态水平锁紧装置:一基板,上面平行地固定有两个滚轮支架,每个滚轮支架上各安装有一转销,并每个转销上装有一呈凹槽的轮架,且所述轮架凹槽的两端朝向上方;滚轮支架上固定有一左挡销和一右挡销,所述左挡销和右挡销分别位于转销的左、右两则;轮架上固定有上挂销,基板上固定有下挂销,上挂销和下挂销之间连接一拉簧,该上挂销和下挂销的位置须满足拉簧的中心平衡点;一档板,固定在滚轮支架的上方一侧;一片夹,其一端平行且对称地开设有两穿透孔,轮架的滚轮分别可嵌入这两个穿透孔中。本发明保证了片夹在承片台上的水平方向上的准确定位及锁紧,使片夹在曝光过程中不会因震动引起水平方向上的偏移和摆动。

    一种曝光机片库定位自动识别装置

    公开(公告)号:CN102156848A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201110082664.3

    申请日:2011-04-02

    IPC分类号: G06K7/10 G03F7/20 B25J9/16

    摘要: 本发明是一种电子束曝光机片库定位自动识别装置,其编码定位标尺通过上、下连接片固定在片库的侧面;编码光电开关和定位光电开关安装在U型板上,螺钉将U型板固定在片库箱体内部的后壁上;编码定位标尺安置在编码光电开关和定位光电开关之间,编码定位标尺的两侧边分别设有透光的定位狭缝和编码狭缝,编码定位标尺的两侧部位于编码光电开关和定位光电开关的凹槽中,编码定位标尺随片库在片库箱体内部上、下移动;定位光电开关用于判断上、下移动编码定位标尺时定位狭缝移动到片库的第N层的位置,编码光电开关检测出编码定位标尺位于片库中第N层位置的二进制编码数据,计算机识别二进制编码数据信息定位控制并命令机械手进行送取片动作。

    基于光子筛的激光直写光刻系统

    公开(公告)号:CN101561637A

    公开(公告)日:2009-10-21

    申请号:CN200910084295.4

    申请日:2009-05-15

    IPC分类号: G03F7/20 G03F7/004

    摘要: 基于光子筛的激光直写光刻系统,是由曝光光源(1)、透镜(2)、空间滤波装置(3)、均匀准直透镜组(4)、反射镜(5)、光子筛(6)、光刻胶(7)、基片(8)、精密工件台(9)组成。激光光源经透镜、空间滤波、均匀准直透镜组后成为均匀准直的平行光,照射到光子筛上,光子筛具有良好的聚焦能力,在涂有光刻胶的基片上聚焦。基片放置在X、Y精密工件台上,利用光子筛与基片之间的相对运动来实现所需的光刻图形。本发明具有很好的工艺兼容性,不需改动整个系统的结构,只需将聚焦元件改为光子筛器件,就可用传统的i线、g线激光直写光刻系统实现纳米量级的分辨力。若在此基础上再缩短曝光光源的波长,则可实现更高的分辨力,以极低的成本实现纳米量级图形的制作。

    一种具有面积微分的球面光刻系统

    公开(公告)号:CN101216684A

    公开(公告)日:2008-07-09

    申请号:CN200810056381.X

    申请日:2008-01-17

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种具有面积微分的球面光刻系统,由光源、照明系统、掩模图形发生器、计算机控制系统、投影成像系统和载物台组成;光源提供照明光,该照明光通过照明系统平行均匀化后,照明掩模图形发生器,计算机控制系统控制掩模图形发生器提供掩模图形,同时根据样品的曲率和投影成像系统的焦深将曝光场细分为若干面元,使掩模图形发生器对于单个面元成像不离焦,投影成像系统将掩模图形发生器提供的掩模图形成像于安装于载物台的样品上,计算机控制系统根据球面样品的曲率确定载物台的摆动长度以及二维运动,对平面掩模进行面积微分,实现不同曲率样品的表面拼接光刻。本发明对球面样品的投影曝光光刻具有很好的灵活性和可操作性,尤其对不同曲率半径球面样品的曝光光刻,显示了特有的优势。

    一种动镜微调整方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102621651B

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201210088199.9

    申请日:2012-03-29

    IPC分类号: G02B7/00

    摘要: 本发明是一种动镜微调整方法,它包括三个压电陶瓷驱动点,三个电容传感器探测点,动镜的解耦算法;该方法根据压电陶瓷驱动点的位置,电容传感器探测点的位置,经过推导得出动镜的解耦算法,从而给出驱动点应该执行的位移,以达到控制动镜的目的,满足动镜的调整需求。

    一种光刻机机中的输片双稳态水平锁紧装置

    公开(公告)号:CN102279533B

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201110236926.7

    申请日:2011-08-17

    发明人: 邢薇 王肇志 胡松

    IPC分类号: G03F7/20 F16B1/04

    摘要: 一种光刻机中的输片双稳态水平锁紧装置:一基板,上面平行地固定有两个滚轮支架,每个滚轮支架上各安装有一转销,并每个转销上装有一呈凹槽的轮架,且所述轮架凹槽的两端朝向上方;滚轮支架上固定有一左挡销和一右挡销,所述左挡销和右挡销分别位于转销的左、右两则;轮架上固定有上挂销,基板上固定有下挂销,上挂销和下挂销之间连接一拉簧,该上挂销和下挂销的位置须满足拉簧的中心平衡点;一档板,固定在滚轮支架的上方一侧;一片夹,其一端平行且对称地开设有两穿透孔,轮架的滚轮分别可嵌入这两个穿透孔中。本发明保证了片夹在承片台上的水平方向上的准确定位及锁紧,使片夹在曝光过程中不会因震动引起水平方向上的偏移和摆动。

    一种可调光束能量衰减装置

    公开(公告)号:CN102063021B

    公开(公告)日:2013-04-10

    申请号:CN201010572547.0

    申请日:2010-12-01

    IPC分类号: G03F7/20 G02B1/10

    摘要: 本发明是一种光束能量可调衰减装置,放置于投影光刻机中光源和照明系统之间,第一平板玻璃与第二平板玻璃相对放置,使得入射光束经过第一平板玻璃和第二平板玻璃后产生所需强度的输出光束输入到照明系统当中。第一平板玻璃与第二平板玻璃通过装夹机构和传动机构刚性连接在一起靠电机驱动做反向同步旋转运动,以改变光束在平板玻璃上的入射角度,从而改变输出光束的强度。本发明允许连续改变光束的强度而不改变入射光束的位置,改善了投影光刻机中投影束的均匀性,控制了基片上曝光剂量,提高了光刻质量。

    一种动镜二维平面调整装置

    公开(公告)号:CN102508359A

    公开(公告)日:2012-06-20

    申请号:CN201110343675.2

    申请日:2011-11-03

    IPC分类号: G02B26/08 G02B7/198 G03F7/20

    摘要: 本发明一种动镜二维平面调整装置,由两个连杆、驱动器和压电陶瓷、八个柔性铰链和三个支撑架构成;在第一层支撑架上固定有第一驱动器;第一柔性铰链至第四柔性铰链位于第一和第二层支撑架之间,并通过四个柔性铰链与第二层支撑架相连;在第二层支撑架上固定有第二驱动器;第五柔性铰链至第八柔性铰链位于第二和第三层支撑架之间,并通过四个柔性铰链与第三层支撑架相连;第一压电陶瓷固接在第一驱动器上;第一压电陶瓷与第一连杆相连,第一连杆与第二层支撑架的顶端相连;第二压电陶瓷固接在第二驱动器上;第二压电陶瓷与第二连杆相连,第二连杆与第三层支撑架的左端相连;通过柔性铰链的内摩擦传递,对动镜在X、Y方向上的位置进行调节。

    一种光刻机掩模刀口移动装置

    公开(公告)号:CN101887218B

    公开(公告)日:2012-04-18

    申请号:CN201010200465.3

    申请日:2010-06-09

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种光刻机掩模刀口移动装置,采用双层单元、两组独立组件结构,由结构相同的X向狭缝刀口移动装置和Y向狭缝刀口移动装置组成,X向狭缝刀口移动装置实现X方向左右独立平动,Y向狭缝刀口移动装置实现Y方向上下独立平动;X向狭缝刀口移动装置和Y向狭缝刀口移动装置装配叠加后分别实现X方向左右、Y方向上下的平动;X向狭缝刀口移动装置或Y向狭缝刀口移动装置由两个刀片夹、两个精密滚珠丝杠、两个丝杠螺母、两个带动杆、两个电机、两个联轴节、两个光栅、一台计算机和一个掩模台组成。本发明能够实现掩模不同位置、并形状大小可自动控制调节的照明区域。