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公开(公告)号：CN110965041B
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN201911273496.9
申请日：2019-12-12
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: C23C16/30 , C23C16/54 , C23C16/46 , C23C16/455 , G01N27/62
Abstract: 本发明涉及一种可插入式气相团簇软沉积装置和方法，包括：依次连接的软沉积腔和样品腔，以及与样品腔连通的真空模块和配气模块；软沉积腔内设质谱仪，质谱仪用于对气相团簇进行质谱分析；样品腔与软沉积腔通过设置在二者连接处的插板阀分割或连通，样品腔内设有能够往复运动的样品台，样品台上设有沉积基底；真空模块对软沉积腔和样品腔抽真空；配气模块向经过抽真空的软沉积腔和样品腔内通入惰性气体。本装置将气相团簇的质谱分析装置与软沉积实验装置结合，能够在进行质谱实验过程中方便地使用软沉积功能，并且在软沉积过程中实时监控气相团簇的沉积量，保证了沉积的气相团簇足够进行后续实验。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110957198B
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN201911273046.X
申请日：2019-12-12
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: H01J3/18
Abstract: 本发明涉及一种逆压梯度传输的离子透镜系统，包括：从离子束入射方向依次串联的第一静电透镜组和第二静电透镜组；第一静电透镜组的透镜个数大于等于三个，且其个数为奇数；第一静电透镜组中每个静电透镜同轴设置，第奇数个第一静电透镜施加的电压为U1，第偶数个第一静电透镜施加的电压为U2，U1不等于U2；第二静电透镜组的透镜个数为大于等于两个，第二静电透镜组中每个静电透镜同轴设置，每个第二静电透镜组中心均设有通孔，且各通孔孔径沿离子束入射方向递减。本装置能够精确调节离子传输过程各静电透镜的电压，降低压梯度传输时离子通量损耗，并与逆压注入器耦合，实现逆压梯度下的离子的有效传输。
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公开(公告)号：CN110957198A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201911273046.X
申请日：2019-12-12
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: H01J3/18
Abstract: 本发明涉及一种逆压梯度传输的离子透镜系统，包括：从离子束入射方向依次串联的第一静电透镜组和第二静电透镜组；第一静电透镜组的透镜个数大于等于三个，且其个数为奇数；第一静电透镜组中每个静电透镜同轴设置，第奇数个第一静电透镜施加的电压为U1，第偶数个第一静电透镜施加的电压为U2，U1不等于U2；第二静电透镜组的透镜个数为大于等于两个，第二静电透镜组中每个静电透镜同轴设置，每个第二静电透镜组中心均设有通孔，且各通孔孔径沿离子束入射方向递减。本装置能够精确调节离子传输过程各静电透镜的电压，降低压梯度传输时离子通量损耗，并与逆压注入器耦合，实现逆压梯度下的离子的有效传输。
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公开(公告)号：CN110042356B
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN201910413543.9
申请日：2019-05-17
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: C23C14/35
Abstract: 本发明公开了一种基于磁控溅射的团簇高效制备与尺寸可调的团簇束源系统。本发明基于磁控溅射镀膜技术的基础上，通过设计合理长径比的磁控管，引入缓冲气体He形成准富压条件，使得靶材表面被工作气体Ar+溅射下来的颗粒物单体(等离子体羽辉)达到(准)热平衡化，并经过充分碰撞反应形成金属‑金属键，生长成团簇新物种；并进一步在载气He的输运条件下，进入质谱检测系统进行团簇质量分析或团簇反应研究等。本发明还可为深入研究特定质量金属团簇的稳定性及其与有机/无机分子气相反应活性提供实验基础，具有重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN110965041A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201911273496.9
申请日：2019-12-12
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: C23C16/30 , C23C16/54 , C23C16/46 , C23C16/455 , G01N27/62
Abstract: 本发明涉及一种可插入式气相团簇软沉积装置和方法，包括：依次连接的软沉积腔和样品腔，以及与样品腔连通的真空模块和配气模块；软沉积腔内设质谱仪，质谱仪用于对气相团簇进行质谱分析；样品腔与软沉积腔通过设置在二者连接处的插板阀分割或连通，样品腔内设有能够往复运动的样品台，样品台上设有沉积基底；真空模块对软沉积腔和样品腔抽真空；配气模块向经过抽真空的软沉积腔和样品腔内通入惰性气体。本装置将气相团簇的质谱分析装置与软沉积实验装置结合，能够在进行质谱实验过程中方便地使用软沉积功能，并且在软沉积过程中实时监控气相团簇的沉积量，保证了沉积的气相团簇足够进行后续实验。
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公开(公告)号：CN110042356A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201910413543.9
申请日：2019-05-17
Applicant: 中国科学院化学研究所
IPC: C23C14/35
Abstract: 本发明公开了一种基于磁控溅射的团簇高效制备与尺寸可调的团簇束源系统。本发明基于磁控溅射镀膜技术的基础上，通过设计合理长径比的磁控管，引入缓冲气体He形成准富压条件，使得靶材表面被工作气体Ar+溅射下来的颗粒物单体(等离子体羽辉)达到(准)热平衡化，并经过充分碰撞反应形成金属-金属键，生长成团簇新物种；并进一步在载气He的输运条件下，进入质谱检测系统进行团簇质量分析或团簇反应研究等。本发明还可为深入研究特定质量金属团簇的稳定性及其与有机/无机分子气相反应活性提供实验基础，具有重要的应用价值。
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