一种描述散射体形状的方法和系统

    公开(公告)号:CN107589135B

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201610534988.9

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种描述散射体形状的方法,该方法包括下列步骤:获得散射体形状初始值的步骤:根据材料微观结构的电子显微学分析方法得到材料内部散射体的尺寸和形状的初始值;描述散射体的步骤:利用超椭球描述函数描述散射体,根据上述初始值设定和改变超椭球描述函数中的参数,构建该形状的散射体。本发明还涉及一种描述散射体形状的系统。本发明利用超椭球描述函数来描述材料中的散射体,能够通过改变超椭球体中的函数来改变散射体形状,为二维散射图谱的计算带来了极大的便利。

    一种描述散射体形状的方法和系统

    公开(公告)号:CN107589135A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201610534988.9

    申请日:2016-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种描述散射体形状的方法,该方法包括下列步骤:获得散射体形状初始值的步骤:根据材料微观结构的电子显微学分析方法得到材料内部散射体的尺寸和形状的初始值;描述散射体的步骤:利用超椭球描述函数描述散射体,根据上述初始值设定和改变超椭球描述函数中的参数,构建该形状的散射体。本发明还涉及一种描述散射体形状的系统。本发明利用超椭球描述函数来描述材料中的散射体,能够通过改变超椭球体中的函数来改变散射体形状,为二维散射图谱的计算带来了极大的便利。

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