一种聚合物包容膜及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116676494A

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202310660556.2

    申请日:2023-06-06

    Inventor: 王朵 沈文宇 杨超

    Abstract: 本发明提供一种聚合物包容膜及其制备方法和应用,所述聚合物包容膜包括萃取剂和基础聚合物;所述萃取剂包括四苯硼钠和磷酸三丁酯。本发明通过采用四苯硼钠和磷酸三丁酯做协同萃取剂,制得的聚合物包容膜能够实现对低浓度锂资源实现高选择性和强稳定性的分离和富集。

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