公开(公告)号：CN112930318B

公开(公告)日：2024-09-13

申请号：CN201980064548.3

申请日：2019-09-27

申请人： 丽瑞德公司 ,  巴黎萨克雷大学 ,  法国国家科学研究中心

发明人： S·莱梅特 ,  D·比内尔 ,  J·莫林 ,  A·博塞博夫

IPC分类号： B81B7/00

摘要： 本发明涉及光电部件(11)或MEMS装置用的气密壳体(10a)，其配置为形成其中低压或真空为主的腔室(12)，所述气密壳体包括：对感兴趣的至少一个波长(λ)透明的光学窗口(14)；和吸气剂材料层(15a)，其配置为捕获存在于该腔室中的气体并沉积在与腔室相对的光学窗口上。该吸气剂材料的厚度(et)大于60纳米，孔隙率(P)在10至70％的范围，从而满足以下关系：式(I)，其中λ对应于所述感兴趣的至少一个波长，k对应于所述光学窗口的所述感兴趣的至少一个波长用的所述吸气剂材料层的材料的消光系数，#imgabs0#

公开(公告)号：CN112930318A

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201980064548.3

申请日：2019-09-27

申请人： 丽瑞德公司 ,  巴黎萨克雷大学 ,  法国国家科学研究中心

发明人： S·莱梅特 ,  D·比内尔 ,  J·莫林 ,  A·博塞博夫

IPC分类号： B81B7/00

摘要： 本发明涉及光电部件(11)或MEMS装置用的气密壳体(10a)，其配置为形成其中低压或真空为主的腔室(12)，所述气密壳体包括：对感兴趣的至少一个波长(λ)透明的光学窗口(14)；和吸气剂材料层(15a)，其配置为捕获存在于该腔室中的气体并沉积在与腔室相对的光学窗口上。该吸气剂材料的厚度(et)大于60纳米，孔隙率(P)在10至70％的范围，从而满足以下关系：式(I)，其中λ对应于所述感兴趣的至少一个波长，k对应于所述光学窗口的所述感兴趣的至少一个波长用的所述吸气剂材料层的材料的消光系数，

公开(公告)号：CN115397767A

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202180025464.6

申请日：2021-04-08

申请人： 丽瑞德公司

发明人： S·莱梅特

IPC分类号： B81C1/00

摘要： 本发明涉及一种微机电系统(10)的制造方法，其包括以下步骤：#在基板(13)上形成(30)机电元件(11)；#制备(31)封装包装(18)，以形成集成所述机电元件(11)的密封腔室(12)，所述密封腔室(12)具有小于10mm3的体积；#在所述基板(13)上或在所述封装包装(18)的壁(17)上物理气相沉积(32)吸气剂膜(15)，使得所述吸气剂膜(15)具有小于8m2/g的比吸收表面积；以及#借助于具有能够活化所述吸气剂膜(15)的温度的热密封循环将所述封装包装(18)密封(33)在所述基板(13)上。

公开(公告)号：CN112384468A

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201980045498.4

申请日：2019-06-19

申请人： 丽瑞德公司

发明人： S·莱梅特 ,  D·比内尔

IPC分类号： B81B7/00

摘要： 本发明涉及一种形成腔室(12)的气密封装体(10)，所述腔室(12)内的压力低或存在真空，所述气密封装体(10)容纳至少一个作为成像测辐射热计形式的部件(11)并且包括能够从所述腔室(12)内捕获气体的单片吸气剂材料层(15)，所述吸气剂材料层(15)的厚度为20～200纳米。