用于通过低温流体喷射进行表面处理的方法和设备

    公开(公告)号:CN102395446A

    公开(公告)日:2012-03-28

    申请号:CN201080016581.8

    申请日:2010-03-16

    IPC分类号: B24C1/00 B24C3/04

    摘要: 本发明涉及采用低温高压流体喷射流的工作设备,特别用于表面处理、浸洗或类似操作,该设备包括:转动或摆动工具(4),该工具包括一个或多个用于分配低温高压流体的喷射流的喷嘴(11);用于使该工具(4)转动或摆动的马达(21)。该马达(21)通过转动传动轴(22)和包括内部传动机构的传动齿轮箱(23)与该工具(4)连接,该内部传动机构通常具有链轮(24)或皮带。该设备进一步包括用于供应干燥气体例如氮气或干燥空气的装置(28),该装置与传动箱(23)的内部流体连接并且设计成能够为所述传动齿轮箱(23)的内部供应干燥气体。所述气体进入传动齿轮箱(23)阻止了该传动齿轮箱的内部被大气杂质污染。

    无旋转接头的流体射流分配装置

    公开(公告)号:CN102470385B

    公开(公告)日:2015-06-03

    申请号:CN201080032070.5

    申请日:2010-06-24

    摘要: 本发明涉及用于分配一股或多股流体射流(6)的装置,所述装置包括将流体供给至一个或多个流体分配喷嘴(5)的流体输入管道(7)和马达(1),流体分配喷嘴(5)布置在所述管道(7)的下游末端,马达(1)借助于旋转式传动轴(2)和传动机构(4a、4b)与流体输入管道(7)配合。流体输入管道(7)包括具有第一轴(XX)的上游部分(7a)和具有第二轴(YY)的下游部分(7b),第一轴和第二轴(XX、YY)之间的夹角α介于5°和50°之间。具有第二轴(YY)的下游部分(7b)具有管道(7)的下游末端,管道(7)的下游末端装配有流体分配喷嘴和传动机构(4a、4b),传动机构(4a、4b)用于移动所述下游部分(7b)的设备以使下游部分(7b)进行确定的运动。本发明还涉及通过高压流体进行表面处理、剥离或清理的方法,其中采用的装置借助于一个或多个喷嘴来分配处于至少1500bar的压力下(优选地介于2000bar和5000bar的压力之间)的一股或多股流体射流。

    无旋转接头的流体射流分配装置

    公开(公告)号:CN102470385A

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN201080032070.5

    申请日:2010-06-24

    摘要: 本发明涉及用于分配一股或多股流体射流(6)的装置,所述装置包括将流体供给至一个或多个流体分配喷嘴(5)的流体输入管道(7)和马达(1),流体分配喷嘴(5)布置在所述管道(7)的下游末端,马达(1)借助于旋转式传动轴(2)和传动机构(4a、4b)与流体输入管道(7)配合。流体输入管道(7)包括具有第一轴(XX)的上游部分(7a)和具有第二轴(YY)的下游部分(7b),第一轴和第二轴(XX、YY)之间的夹角α介于5°和50°之间。具有第二轴(YY)的下游部分(7b)具有管道(7)的下游末端,管道(7)的下游末端装配有流体分配喷嘴和传动机构(4a、4b),传动机构(4a、4b)用于移动所述下游部分(7b)的设备以使下游部分(7b)进行确定的运动。本发明还涉及通过高压流体进行表面处理、剥离或清理的方法,其中采用的装置借助于一个或多个喷嘴来分配处于至少1500bar的压力下(优选地介于2000bar和5000bar的压力之间)的一股或多股流体射流。

    用于分配低温流体射流的包括稳定室的装置

    公开(公告)号:CN103958127A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201280057277.7

    申请日:2012-10-23

    IPC分类号: B24C1/00 B24C1/08

    摘要: 本发明涉及一种用于分配一股或多股低温流体射流(6)的装置,该装置包括流体供给管道(1),该流体供给管道向布置于所述管道下游的一个或多个流体分配喷嘴(5)进行供给,其中所述流体供给管道(1)的流体流动截面具有第一直径(d)。根据本发明,用于分配一股或多股低温流体射流的装置还包括设置在流体供给管道(1)和流体分配喷嘴(5)之间的至少一个稳定室(4),该稳定室流体连接至所述流体供给管道(1)和所述喷嘴(5)两者。每个稳定室的流体流动截面具有大于流体供给管道(1)的流体流动截面的第一直径(d)的第二直径(D)。本发明还涉及使用一股或多股低温流体射流的相关联的处理单元。本发明还涉及利用本发明的装置执行作业操作的方法。