基于MeV的离子射束分析设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112243495A

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN201980033382.9

    申请日:2019-03-27

    IPC分类号: G01N23/2257

    摘要: 本发明涉及一种用于样本的基于MeV的离子射束分析的装置,包括:真空测量腔,其带有至少一个探测器和摄像机;真空系统,其用于在真空测量腔内产生真空;离子射束管和用于聚焦离子射束的聚焦系统;以及样本转移系统,其包括带有样本保持部的样本操纵器,该样本保持部用于接纳至少一个样本。根据本发明,装置附加地包括用于将离子射束管真空密封地联接到测量腔的耦合系统,该耦合系统包括离子射束真空导引部、用于接纳探测器的器件、用于接纳摄像机的器件以及用于接纳样本转移系统的器件。

    基于MeV的离子射束分析设备

    公开(公告)号:CN112243495B

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN201980033382.9

    申请日:2019-03-27

    IPC分类号: G01N23/2257

    摘要: 本发明涉及一种用于样本的基于MeV的离子射束分析的装置,包括:真空测量腔,其带有至少一个探测器和摄像机;真空系统,其用于在真空测量腔内产生真空;离子射束管和用于聚焦离子射束的聚焦系统;以及样本转移系统,其包括带有样本保持部的样本操纵器,该样本保持部用于接纳至少一个样本。根据本发明,装置附加地包括用于将离子射束管真空密封地联接到测量腔的耦合系统,该耦合系统包括离子射束真空导引部、用于接纳探测器的器件、用于接纳摄像机的器件以及用于接纳样本转移系统的器件。