公开(公告)号：CN201455753U

公开(公告)日：2010-05-12

申请号：CN200920110918.6

申请日：2009-02-12

申请人： 云南飞隆劳尔设备有限公司

发明人： 吴山崧 ,  余永泰 ,  董有才

IPC分类号： B24B7/00 ,  B24B7/04 ,  B24B41/04

摘要： 本实用新型公开了一种大平面立式铣磨机，主要用于光电行业对各种光学、陶瓷、晶片材料及各种金属零件的平面铣磨加工。其主要技术方案是：在铣磨机整体结构中，采用了新的机床底座部件、磨头轴部件、立柱部件，和原大平面立式铣磨机的其它部件一起，共同组成新的大平面立式铣磨机。本实用新型通过实际应用证明：从根本上克服了原铣磨机对工件加工尺寸范围小、加工精度偏低的缺陷。实现了对工件加工尺寸扩大、加工精度提高、质量可靠，完全满足现代光电行业对高精度平面工件铣磨加工的需求。

公开(公告)号：CN201350584Y

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200920110919.0

申请日：2009-02-12

申请人： 云南飞隆劳尔设备有限公司

发明人： 吴山崧 ,  余永泰 ,  董有才

IPC分类号： B24B9/16 ,  B24B29/00

摘要： 本实用新型公开了一种双零件盘水钻元件精磨抛光机，该机主要用于磨抛零件尺寸在Φ1－6mm的水钻元件，也可以用于其它材料类似元件的磨抛加工。其主要技术方案是：在抛光机的主磨盘上方，按180°对称安装两个零件盘；适度增大主磨盘和零件盘的直径。本实用新型通过使用证明，从根本上克服了原抛光机对水钻元件抛光质量差、加工效率偏低的缺陷。实现了提高产品质量和生产效率，降低成本，适应现代水钻元件行业迅速发展的需求。

公开(公告)号：CN301077954D

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200930128247.1

申请日：2009-02-12

申请人： 云南飞隆劳尔设备有限公司

设计人： 吴山崧 ,  余永泰

摘要： 产品底部无形状特征，且体积大笨重，故省略仰视图。俯视图左边暗影部