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公开(公告)号：CN117642869A
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202280002028.1
申请日：2022-06-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本公开提供了一种显示装置及显示面板。该显示面板包括：驱动背板，包括衬底以及设于所述衬底的驱动电路层，所述驱动电路层包括间隔设置的多个驱动电路区以及围绕各所述驱动电路区的透明区，所述透明区设有凹陷部，且所述驱动电路层位于所述凹陷部的膜层数量少于所述驱动电路区的膜层数量；所述驱动电路层位于所述驱动电路区的部分背向所述衬底的一侧设有连接发光单元的焊盘；透光胶材，填充所述凹陷部，且所述透光胶材背向所述衬底的表面位于所述焊盘背向所述衬底的一侧。本公开能够提高显示效果。
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公开(公告)号：CN117199103A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202311195883.1
申请日：2023-09-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/15 , H01L33/48 , H01L33/50 , H01L33/60 , H01L33/62 , H01L33/00 , H01L33/54 , G02F1/13357 , G02F1/1343
摘要： 本申请提供了一种发光基板、显示装置及发光基板制备方法，涉及显示技术领域。该发光基板包括基底层，基底层设置有多个第一凹槽和多个第二凹槽，且每个第一凹槽位于两个第二凹槽之间；多个发光组件，阵列式设置于基底层的一侧；每个发光组件包括：发光结构、设置于一个第一凹槽内的第一电极、以及设置于一个第二凹槽内的第二电极，其中，发光结构包括第一引脚、第二引脚以及光线出射区，第一电极的高度大于或等于第一凹槽的深度，第二电极的高度大于或等于第二凹槽的深度，第一电极与第一引脚电连接，第二电极与第二引脚电连接，且光线出射区在基底层上的正投影，位于第一电极在基底层上的正投影和第二电极在基底层上的正投影之间。
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公开(公告)号：CN114495801B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN202210233775.8
申请日：2022-03-10
申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G09G3/20
摘要： 本公开提供一种显示装置、栅极驱动电路、移位寄存单元及其驱动方法。该移位寄存单元包括：输入子电路，与第一级联输入端以及上拉节点连接，用于在第一级联输入端的电位控制下控制上拉节点的电位；输出子电路，与上拉节点以及信号输出端连接，用于在上拉节点的电位控制下控制信号输出端的电位；去噪子电路，与上拉节点、下拉节点、第一时钟信号端、第二时钟信号端以及第一电源信号端连接，用于根据下拉节点的电位以及第一时钟信号端的电位控制第一电源信号端与上拉节点连接，还用于根据下拉节点的电位以及第二时钟信号端的电位控制第一电源信号端与上拉节点连接。本公开能够避免对显示装置的显示效果造成不良影响。
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公开(公告)号：CN116830202A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180003513.6
申请日：2021-11-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G11C19/28
摘要： 一种移位寄存器单元、栅极驱动电路及显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的移位寄存器单元中的薄膜晶体管的阈值电压不稳定，容易产生漏电流的问题。移位寄存器单元包括：输入子电路(101)、输出子电路(102)、下拉控制子电路(103)、下拉子电路(104)、第一降噪子电路(105)、第一辅助控制子电路(108)和第二辅助控制子电路(109)；第一辅助控制子电路(108)被配置为在下拉节点(PD)为第一参考电平信号时，将第三参考电平信号写入下拉控制节点(PC)，并控制下拉子电路(104)闭合，以控制第一降噪子电路(105)关断；第二辅助控制子电路(109)被配置为在下拉节点(PD)为第一电源电压信号时，将第一参考电平信号写入下拉控制节点(PC)，并控制下拉子电路(104)关断，以控制第一降噪子电路(105)通过第二参考电平信号对上拉节点(PU)进行降噪。
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公开(公告)号：CN116648098A
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202310573040.4
申请日：2023-05-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： H10K59/126 , H10K59/12 , H10K71/00 , H10K59/124
摘要： 本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置，所述显示面板包括：衬底，设置在所述衬底上的驱动电路层，所述驱动电路层包括源漏金属层；设置在所述驱动电路层上的钝化层，其中，所述钝化层开设有暴露所述源漏金属层的第一过孔；设置在所述钝化层上的阻挡坝，以及覆盖所述阻挡坝和露出的所述钝化层的平坦层，所述平坦层开设有第二过孔，所述第二过孔在所述衬底上的正投影与所述第一过孔在所述衬底上的正投影至少部分重叠，所述阻挡坝在所述衬底上的正投影围绕所述第二过孔在衬底上的正投影。通过在所述钝化层上设置围绕过孔区域的阻隔坝结构，改善了显示面板的显示效果，降低显示面板的色分离程度，且制备成本较低，具有极大的应用前景。
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公开(公告)号：CN115101649A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202210730333.4
申请日：2022-06-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 一种发光二极管器件及其制备方法、显示基板和显示装置，其中，发光二极管器件包括：N个发光元件，N为大于或者等于2的正整数，发光元件包括：第一子半导体层、子多量子阱层、第二子半导体层、第一电极和第二电极；N个发光元件的第二电极为同一电极，发光二极管器件还包括：连接电极，连接电极分别与N个发光元件的第一子半导体层和N个发光元件的第二电极电连接。
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公开(公告)号：CN114170638A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202111359811.7
申请日：2021-11-17
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06V40/13
摘要： 本发明提供了一种纹路识别基板、其制作方法及装置，其中，该纹路识别基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个纹路传感单元；各个纹路传感单元包括光敏采集器以及位于所述光敏采集器背离所述衬底基板一侧的反射增强部，所述反射增强部用于反射来自外界的至少部分环境光。提高了强光下的纹路识别精度。
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公开(公告)号：CN114005914A
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202111275093.5
申请日：2021-10-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本申请提供一种发光二极管及其制作方法、显示装置，发光二极管包括衬底、设置在衬底一侧的外延层、以及设置在外延层远离衬底一侧的反射结构层，反射结构层包括第一反射层和第二反射层，第一反射层覆盖外延层，第二反射层设置在第一反射层远离衬底的一侧且覆盖第一反射层；第一反射层设有多个间隔设置且贯穿第一反射层的金属结构，金属结构用于反射外延层发出的光线。通过在第一反射层中设置多个金属结构，第一反射层、第二反射层和多个金属结构结合形成的反射结构层对于不同角度的入射光均有较好的反射效果，和只采用第一反射层、第二反射层或只采用银镜结构作为反射结构层的方式相比，提高了发光二极管的发光效率。
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公开(公告)号：CN113887531A
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202111345726.5
申请日：2021-11-15
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06K9/00
摘要： 本发明提供了一种纹路识别基板、其驱动方法及装置，其中，所述纹路识别基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上呈阵列排布的多个纹路传感单元；各个所述纹路传感单元包括第一光敏采集器、第二光敏采集器、第一光路选择控制器和第二光路选择控制器；其中，所述第一光路选择控制器在第一采样控制端的控制下与所述第一光敏采集器串联耦接；所述第二光路选择控制器在第二采样控制端的控制下与所述第二光敏采集器串联耦接，且串联耦接后的电路与所述第一光敏采集器并联耦接。
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公开(公告)号：CN112864076A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110031508.8
申请日：2021-01-11
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/66 , H01L21/67 , H01L33/48
摘要： 一种转移装置及转移方法，所述转移装置包括设置在所述衬底上的至少一个转移结构，所述转移结构包括：光敏检测子电路、转移控制子电路和转移头，所述光敏检测子电路连接所述转移控制子电路，所述转移控制子电路连接所述转移头，所述光敏检测子电路被配置为，检测发光元件是否发光，输出光敏检测信号至所述转移控制子电路；所述转移控制子电路被配置为，根据所述光敏检测信号，输出转移控制信号至所述转移头，以控制所述转移头产生或失去吸附力；所述转移头被配置为，接收所述转移控制子电路的转移控制信号，产生或失去吸附力，以拾取或释放所述发光元件。
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