公开(公告)号：CN118604452A

公开(公告)日：2024-09-06

申请号：CN202410696814.7

申请日：2024-05-31

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  北京京东方显示技术有限公司

Inventor： 高宗丽 ,  田婷 ,  杨胜伟 ,  尹晓峰 ,  祝佐成 ,  安娜 ,  次刚 ,  张宁宁 ,  王若鹏

IPC: G01R27/02

Abstract: 本发明提供一种绑定结构的阻抗测试方法、装置、电子设备和可读存储介质。绑定结构的阻抗测试方法包括：在触控模组通过第一电源信号端供电的情况下，通过第一采集电路采集目标耦合电容的第一电容值；通过第二采集电路采集所述目标耦合电容的第二电容值；根据所述第一电容值和所述第二电容值的差异确定所述第一电源信号端提供的第一电源信号的变化量；根据所述第一电源信号的变化量计算所述绑定结构的阻抗。本发明实施例通过采集目标耦合电容的电容值，并根据不同供电状态下，其电容值差异，确定导致该测量值差异的电压变化量，并进一步确定该压降对应的阻抗，能够实现对绑定结构阻抗的测量，提高了对于绑定结构阻抗测量的便利程度。

公开(公告)号：CN108303373B

公开(公告)日：2021-01-22

申请号：CN201810101455.0

申请日：2018-02-01

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

Inventor： 阳清 ,  孟庆超 ,  杨文娟 ,  谈宜川 ,  马力 ,  王若鹏 ,  尹奇

IPC: G01N21/01 ,  G01N21/27

Abstract: 本发明公开了一种检测消影等级的装置及其控制方法，该装置，包括：光源，位于光源的光学路径上的光学元件，光谱检测器，以及与光谱检测器电信号连接的控制器；其中，光学元件，用于将光源出射的光线入射至图案区，并将图案区的反射光入射至光谱检测器，以及将光源出射的光线入射至沟道区，并将沟道区的反射光入射至光谱检测器；光谱检测器，用于检测图案区的反射光的光坐标，并将图案区的反射光的光坐标发送至控制器，以及检测沟道区的反射光的光坐标，并将沟道区的反射光的光坐标发送至控制器；控制器，用于根据图案区和沟道区的反射光的光坐标，确定待测基板的消影等级。该装置实现了宏观现象的数据体现，可以准确的得到待测基板的消影等级。

公开(公告)号：CN108303373A

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201810101455.0

申请日：2018-02-01

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

Inventor： 阳清 ,  孟庆超 ,  杨文娟 ,  谈宜川 ,  马力 ,  王若鹏 ,  尹奇

IPC: G01N21/01 ,  G01N21/27

Abstract: 本发明公开了一种检测消影等级的装置及其控制方法，该装置，包括：光源，位于光源的光学路径上的光学元件，光谱检测器，以及与光谱检测器电信号连接的控制器；其中，光学元件，用于将光源出射的光线入射至图案区，并将图案区的反射光入射至光谱检测器，以及将光源出射的光线入射至沟道区，并将沟道区的反射光入射至光谱检测器；光谱检测器，用于检测图案区的反射光的光坐标，并将图案区的反射光的光坐标发送至控制器，以及检测沟道区的反射光的光坐标，并将沟道区的反射光的光坐标发送至控制器；控制器，用于根据图案区和沟道区的反射光的光坐标，确定待测基板的消影等级。该装置实现了宏观现象的数据体现，可以准确的得到待测基板的消影等级。