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公开(公告)号：CN103769351B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201410024900.X
申请日：2014-01-20
申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： B05C11/10
摘要： 本发明公开了一种光刻胶回收系统，用于解决光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶浪费的问题。所述系统包括：接收装置，接收装置与光刻胶涂布装置连接，分别与第一缓冲装置和第二缓冲装置连接的输送装置，输送装置用于将第一缓冲装置中的光刻胶输送至第二缓冲装置；第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；第二缓冲装置用于容纳输送装置输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶通过上述各装置进入胶桶，可以再次利用，从而降低生产成本。
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公开(公告)号：CN106423755B
公开(公告)日：2019-06-25
申请号：CN201611028101.5
申请日：2016-11-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC分类号： B05C11/1039 , B05B15/55 , B05C5/0254 , B08B3/14 , B08B9/00 , B08B9/0321 , B08B9/0328 , G02F1/133345 , G02F2001/133357 , G03F7/16 , H01L21/67017 , H01L21/6715
摘要： 一种涂布设备、利用其回收涂布液的方法及其清洁方法。该涂布设备包括供给装置、涂布装置以及回收装置。所述供给装置包括进液口、出液口、连接所述进液口的涂布液供给单元和连接所述出液口的供给泵。所述涂布装置包括具有接收口、涂布口和排气口的涂布头，所述接收口与所述供给装置的出液口连接。所述回收装置包括至少一个回收入口和回收液出口，所述至少一个回收入口包括的供给过程回收入口与所述涂布头的排气口连接，所述回收液出口与所述供给装置的进液口连接。本发明实施例可以减少涂布液的浪费。
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公开(公告)号：CN104803196A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510173279.8
申请日：2015-04-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC分类号： F16K31/06 , F16K15/063 , F16K17/04 , F26B5/04 , H01L21/67017
摘要： 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种真空管路系统。该真空管路系统包括：干泵和真空干燥腔室，所述干泵通过真空管路与所述真空干燥腔室连接；所述真空管路上设有第一阀门和第二阀门，在所述真空管路上且位于第一阀门和第二阀门之间设有大气开放系统，所述大气开放系统用于向所述真空管路内输入气体，从而减少了有机物在真空管路及主阀门中附着的概率，延长主阀门的寿命，降低成本。
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公开(公告)号：CN106773559A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201710007791.4
申请日：2017-01-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： G03F7/30 , B05B13/0221 , B65G13/00 , B65G39/10 , B65G2201/02 , G03F7/3064
摘要： 本发明提供一种传输装置、显影系统及显影方法，属于显示装置的制备技术领域，其可解决现有的基板显影受液不均导致显影不均，影响像素线宽均一性，导致漏光的问题。本发明的传输装置中包括第一倾斜传输部、第二倾斜传输部，这两个传输部的传输面相背或者相对，这样在基板的传输过程中，倾斜设置的传输部在传输基板的同时两次改变基板所在面相对于传输方向的角度，以在传输过程中完成对基板的作业。该传输装置用于显影系统时，基板在第一倾斜传输部倾斜，喷淋单元向待显影基板喷淋显影液进行显影，然后基板在第二倾斜传输部再次倾斜，进行显影，由于两个传输部的传输面相背或者相对，这样使基板整个表面受液均匀，进而达到线宽显像均一的目的。
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公开(公告)号：CN106423755A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201611028101.5
申请日：2016-11-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC分类号： B05C11/1039 , B05B15/55 , B05C5/0254 , B08B3/14 , B08B9/00 , B08B9/0321 , B08B9/0328 , G02F1/133345 , G02F2001/133357 , G03F7/16 , H01L21/67017 , H01L21/6715 , B05C5/02 , B05B15/555 , B05C11/1002
摘要： 一种涂布设备、利用其回收涂布液的方法及其清洁方法。该涂布设备包括供给装置、涂布装置以及回收装置。所述供给装置包括进液口、出液口、连接所述进液口的涂布液供给单元和连接所述出液口的供给泵。所述涂布装置包括具有接收口、涂布口和排气口的涂布头，所述接收口与所述供给装置的出液口连接。所述回收装置包括至少一个回收入口和回收液出口，所述至少一个回收入口包括的供给过程回收入口与所述涂布头的排气口连接，所述回收液出口与所述供给装置的进液口连接。本发明实施例可以减少涂布液的浪费。
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公开(公告)号：CN103769351A
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201410024900.X
申请日：2014-01-20
申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： B05C11/10
摘要： 本发明公开了一种光刻胶回收系统，用于解决光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶浪费的问题。所述系统包括：接收装置，接收装置与光刻胶涂布装置连接，分别与第一缓冲装置和第二缓冲装置连接的输送装置，输送装置用于将第一缓冲装置中的光刻胶输送至第二缓冲装置；第二缓冲装置的顶部通过设置有第二控制阀的管道与干洁气源连接；第二缓冲装置的底部连接设置有第四控制阀的管道；第二缓冲装置用于容纳输送装置输送的使用过的光刻胶，并在干洁气源提供的气压下，通过所述设置有第四控制阀的管道将所述使用过的光刻胶输送至胶桶。光刻胶涂布机排出的使用过的光刻胶通过上述各装置进入胶桶，可以再次利用，从而降低生产成本。
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公开(公告)号：CN205363724U
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201620153651.9
申请日：2016-02-29
申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： B25B23/00
摘要： 本实用新型实施例提供一种拆装螺丝的工具，涉及机械领域，能够有效解决螺丝拆装时脱落的问题。所述工具包括：转动杆，转动杆的一端设置有螺丝刀头；所述螺丝刀头的外围设置有防脱落件，防脱落件与转动杆连接，防脱落件可沿转动杆滑动；在拆卸螺丝时，螺丝可旋转进入防脱落件中，使防脱落件产生弹性形变。本实用新型用于拆装螺丝。
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公开(公告)号：CN205293727U
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201620040648.6
申请日：2016-01-15
申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本实用新型公开了一种储料装置，属于储料设备领域。所述储料装置包括：桶体；所述桶体的两端分别设置有供料针和气压孔，所述供料针和所述气压孔均与所述桶体的内部连通；其中，在将所述储料装置中的液体排出时，所述供料针位于所述气压孔的下方。本实用新型通过将供料针设置在储料装置的桶体的下端，气压孔设置在储料装置的桶体的上端，在通过气压孔向桶体内加压后，桶体内的液体就能够从桶体下端的供料针流出，桶体内不会残留液体，解决了相关技术中由于供料针的端口与储料装置底部存在间隙，导致储料装置中的光刻胶无法完全从储料装置中流出，造成了光刻胶的浪费的问题。达到了不浪费桶体内存储的液体的效果。
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公开(公告)号：CN203892154U
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201420140869.1
申请日：2014-03-26
申请人： 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本实用新型提供一种真空处理装置，用于对真空干燥设备内的待处理基板进行抽真空处理，该真空处理装置包括一干泵，真空处理装置还包括：用于对由真空干燥设备抽出的气体进行过滤，并使过滤后的气体进入干泵内的过滤装置；过滤装置包括：用于对由真空干燥设备抽出的气体进行冷却，以使气体中的杂质气体凝华和/或液化后排出的冷却单元，冷却单元的气体入口与真空干燥设备的气体出口连通，冷却单元的气体出口与干泵的气体入口连通。本实用新型所提供的真空处理装置，其结构简单，通过真空干燥设备与干泵之间设置一过滤装置，可以将真空干燥设备抽出的气体中杂质气体凝华或液化后排出掉，从而减少了进入干泵内的杂质气体，可以延长干泵的使用寿命。
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公开(公告)号：CN204549453U
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201520220633.3
申请日：2015-04-13
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
摘要： 本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种真空管路系统。该真空管路系统包括：干泵和真空干燥腔室，所述干泵通过真空管路与所述真空干燥腔室连接；所述真空管路上设有第一阀门和第二阀门，在所述真空管路上且位于第一阀门和第二阀门之间设有大气开放系统，所述大气开放系统用于向所述真空管路内输入气体，从而减少了有机物在真空管路及主阀门中附着的概率，延长主阀门的寿命，降低成本。
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